Вышедшие номера
Автоионно-микроскопические анализы роли различных компонентов слаборазбавленных сплавов вольфрама в формировании дефектной структуры областей развития каскадов атомных смещений
Суворов А.Л., Залужный А.Г., Бобков А.Ф., Зайцев С.В., Бабаев В.П., Гусева М.И., Коршунов С.Н., Николаева И.Н., Залужный А.А.1
1Государственный научный центр РФ, Институт теоретической и экспериментальной физики, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 29 мая 2002 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2002 г.

Приведены некоторые новые результаты комплексных автоионно-микроскопических исследований радиационных эффектов в сверхчистом вольфраме ВЧВ, технически чистом вольфраме ВА-3 и четырех слаборазбавленных сплавах вольфрама: П39А (W-Hf-C), ВТ-15 (W-1.5% ThO2), ВР-5 (W-5% Re), ВЖ-2 (W-2% Fe). Облучение образцов осуществлялось во внешнем устройстве ионами Ar+ и Ni+ с энергией 35 keV. Плотность ионного тока во всех случаях поддерживалась равной j=2.0 muA, флюенс облучения составлял Phi t=5· 1014 ion/cm2. Изучены особенности кластеризации единичных вакансий в облученных образцах во взаимосвязи с уровнем и типом содержащихся в них примесей. Получены и проанализированы распределения комплексов вакансий в облученных образцах по числу объединенных в них единичных вакансий. Обнаружено заметное различие таких распределений для объемов обедненных зон и объемов материала вне их. Косвенно измерены средние значения длин цепочек фокусированных замещающих столкновений атомов в образцах с различным уровнем и разным типом примесей. По этим результатам оценена эффективность захвата собственных междоузельных атомов различными примесями в вольфраме.