Журнал технической физики

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2025
- 1 2 3 4 5 6 7
2024
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Исследование неоднородности свойств тонких пленок нитрида ниобия, полученных методом атомно-слоевого осаждения

Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования и науки Российской Федерации, № 122040800157-8

Шибалов М.В.¹, Шибалова А.А.¹, Шевченко А.Р.¹, Мумляков А.М.¹, Филиппов И.А.¹, Тархов М.А.^1,2

¹Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук, Москва, Россия Institute of Nanotechnology of Microelectronics, Russian Academy of Sciences, Moscow, Russia

Institute of Nanotechnology of Microelectronics, Russian Academy of Sciences, Moscow, Russia

²Национальный исследовательский университет "Московский энергетический институт", Москва, Россия National Research University “Moscow Power Engineering Institute”, Moscow, Russia

National Research University “Moscow Power Engineering Institute”, Moscow, Russia

Email: maxshibalov@gmail.com

Поступила в редакцию: 17 мая 2024 г.

В окончательной редакции: 24 сентября 2024 г.

Принята к печати: 6 октября 2024 г.

Выставление онлайн: 6 января 2025 г.

PDF версия

Изучена неоднородность свойств тонкой пленки нитрида ниобия, полученной методом атомно-слоевого осаждения, усиленного плазмой на 100 mm кремниевой подложке со слоем оксида кремния. Неоднородность распределения поверхностного сопротивления составила 7% на диаметре 92 mm. Неоднородность распределения толщины пленки, измеренная с помощью рентгеновской рефлектометрии в центральной части пластины и в четырех местах на удалении от центра на 40 mm, составила 4%. Рентгеновская дифракция, проведенная в этих же местах на подложке, не показала видимых сдвигов рефлексов. Расхождение в параметре решетки для разных областей составила всего 0.06%. Сверхпроводящие измерения показали максимальное отклонение на 1.6% по температуре перехода в сверхпроводящее состояние и 7% по плотности критического тока на диаметре 80 mm. Ключевые слова: атомно-слоевое осаждение, плазма, нитрид ниобия, неоднородность, температура перехода в сверхпроводящее состояние, критическая плотность тока.

M.V. Shibalov, A.M. Mumlyakov, I.V. Trofimov, E.R. Timofeeva, A.P. Sirotina, E.A. Pershina, A.M. Tagachenkov, Y.V. Anufriev, E.V. Zenova, M.A. Tarkhov. Superconductor Science Technol., 34 (8), 085016 (2021). DOI: 10.1088/1361-6668/ac0d09
M.V. Shibalov, A.P. Sirotina, E.A. Pershina, V.P. Martovitskii, A.A. Shibalova, A.M. Mumlyakov, I.V. Trofimov, E.R. Timofeeva, N.V. Porokhov, E.V. Zenova, M.A. Tarkhov. Appl. Surf. Sci., 612, 155697 (2023). DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155697
M.J. Sowa, Y. Yemane, J. Zhang, J.C. Palmstrom, L. Ju, N.C. Strandwitz, B.P. Fritz, J. Provine. J. Vacuum Sci. Technol. A, 35 (1), (2017). DOI: 10.1116/1.4972858
S.M. George. Chem. Rev., 110 (1), 111 (2010). DOI: 10.1021/cr900056b
M. Ritala, M. Leskela. Handbook of Thin Films (2002). DOI: 10.1016/B978-012512908-4/50005-9
S.A. Ryabchun, I.V. Tretyakov, M.I. Finkel, S.N. Maslennikov, N.S. Kaurova, V.A. Seleznev, B.M. Voronov, G.N. Goltsman. Signal, 270, 320 (2008)
L. Parlato, G. Peluso, G. Pepe, U.S. di Uccio, R. Cristiano, E. Espositio, L. Frunzio, S. Pagano, H. Akoh, H. Nakagawa, S. Takada, M. Gutsche, H. Kraus. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment, 370 (1), 95 (1996). DOI: 10.1016/0168-9002(95)01060-2
B.K. Tan, F. Boussaha, C. Chaumont, J. Longden, J.N. Montilla. Open Research Europe, 2, (2022)
G.N. Gol'Tsman, O. Okunev, G. Chulkova, A. Lipatov, A. Semenov, K. Smirnov, B. Voronov, A. Dzardanov, C. Williams, R. Sobolewski. Appl. Рhys. Lett., 79 (6), 705 (2001). DOI: 10.1063/1.1388868
F. Marsili, F. Najafi, E. Dauler, F. Bellei, X. Hu, M. Csete, R.J. Molnar, K.K. Berggren. Nano Lett., 11 (5), 2048 (2011). DOI: 10.1021/nl2005143
G.K.G. Hohenwarter, E.K. Track, R.E. Drake, R. Patt. IEEE Transactions Appl. Superconductivity, 3 (1), 2804 (1993). DOI: 10.1109/77.233499
Y.Z. Wang, W.J. Zhang, X.Y. Zhang, G.Z. Xu, J.M. Xiong, Z.G. Chen, Y. Hong, X. Liu, P. Yuan, L. Wu, Z. Wang, L.X. You. arXiv preprint arXiv:2402.02311. (2024)
G.G. Taylor, D. Morozov, N.R. Gemmell, K. Erotokritou, S. Miki, H. Terai, R.H. Hadfield. Opt. Express, 27 (26), 38147 (2019). DOI: 10.1364/OE.27.038147
D. Koushik, M. Jov st, A. Duv cinskas, C. Burgess, V. Zardetto, C. Weijtens, M.A. Verheijen, W.M.M. Kessels, S. Albrecht, M. Creatore. J. Mater. Chem. C, 7 (40), 12532 (2019). DOI: 10.1039/C9TC04282B
J.A. Oke, T.C. Jen. J. Mater. Res. Technol., (2022). DOI: 10.1016/j.jmrt.2022.10.064
K.E. Elers, T. Blomberg, M. Peussa, B. Aitchison, S. Haukka, S. Marcus. Chem. Vapor Deposition, 12 (1), 13 (2006). DOI: 10.1002/cvde.200500024
E. Knehr, M. Ziegler, S. Linzen, K. Ilin, P. Schanz, J. Plentz, M. Diegel, H. Schmidt, E. Il'ichev, M. Siegel. J. Vacuum Sci. Technol. A, 39 (5), (2021). DOI: 10.1116/6.0001126
C.T. Lennon, Y. Shu, J.C. Brennan, D.K. Namburi, V. Varghese, D.T. Hemakumara, L.A. Longcha, S. Srinath, R.H. Hadfield. Mater. Quant. Technol., 3 (4), 045401 (2023). DOI: 10.1088/2633-4356/ad0aa5
D. Dochev, V. Desmaris, A. Pavolotsky, D. Meledin, Z. Lai, A. Henry, E. Janzen, E. Pippel, J. Woltersdorf, V. Belitsky. Superconductor Sci. Technol., 24 (3), 035016 (2011). DOI: 10.1088/0953-2048/24/3/035016
R. Romestain, B. Delaet, P. Renaud-Goud, I. Wang, C. Jorel, J.C. Villegier, J.P. Poizat. New J. Phys., 6 (1), 129 (2004). DOI: 10.1088/1742-6596/97/1/012087
R. Espiau de Lamaestre, P. Odier, J.C. Villegier. Appl. Phys. Lett., 91 (23), (2007). DOI: 10.1063/1.2820607
M. Ziegler, S. Linzen, S. Goerke, U. Bruckner, J. Plentz, J. Dellith, A. Himmerlich, M. Himmerlich, U. Hubner, S. Krischok, H.G. Meyer. IEEE Transactions Appl. Superconductivity, 27 (7), 1 (2017). DOI: 10.1109/TASC.2017.2744326
S. Linzen, M. Ziegler, O.V. Astafiev, M. Schmelz, U. Hubner, M. Diegel, E. Il'ichev, H.G. Meyer. Supercond. Sci. Technol., 30 (3), 035010 (2017). DOI: 10.1088/1361-6668/aa572a

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель