Вышедшие номера
Исследование электрического сопротивления пленок галлия на реконструированной поверхности Si(111)
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации, государственное задание, FWFW-2021-0002
Цуканов Д.А. 1,2, Рыжкова М.В. 1
1Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, Владивосток, Россия
2Дальневосточный федеральный университет, Владивосток, Россия
Email: tsukanov@iacp.dvo.ru, ryzhkova@iacp.dvo.ru
Поступила в редакцию: 25 апреля 2024 г.
В окончательной редакции: 25 апреля 2024 г.
Принята к печати: 25 апреля 2024 г.
Выставление онлайн: 27 июля 2024 г.

Представлены результаты исследования кристаллической структуры и электрического сопротивления подложек кремния Si(111) после осаждения галлия на предварительно сформированные поверхностные реконструкции в системах Ga/Si(111), Tl/Si(111), Au/Si(111). Для исследования изменений структуры кристаллической решетки поверхности использован метод дифракции медленных электронов, а для измерения электрического сопротивления подложек в условиях in situ - четырехзондовый метод. Рассмотрено влияние концентрации адсорбированных атомов галлия на структурные и электрические свойства пленок. Показана роль поверхностных реконструкций в качестве буферного слоя для последующего роста сверхтонких пленок. Ключевые слова: адсорбция, поверхностная реконструкция, электрическое сопротивление, дифракция медленных электронов, четырехзондовый метод измерения сопротивления подложки.