Журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Особенности формирования изображения в составных преломляющих линзах в мягком рентгеновском диапазоне длин волн
Глаголев П.Ю.
1, Демин Г.Д.
1, Корнеев В.И.
1, Дюжев Н.А.
1
1Национальный исследовательский университет «МИЭТ», 124498 Зеленоград, Москва, Россия
Email: glagolev@ckp-miet.ru
Поступила в редакцию: 17 мая 2024 г.
В окончательной редакции: 17 мая 2024 г.
Принята к печати: 17 мая 2024 г.
Выставление онлайн: 1 июля 2024 г.
Обсуждена возможность использования составных преломляющих линз в качестве элементов рентгеновской оптики, предназначенных для формирования изображения на рентгенорезисте в мягком рентгеновском диапазоне длин волн. Для этой цели проведено математическое моделирование преобразования волнового фронта при его прохождении через рассматриваемую оптическую систему. Рассчитано распределение интенсивности волнового фронта рентгеновского излучения с длиной волны от 2 до 14 nm на входе/выходе составной преломляющей линзы и в плоскости подложки с рентгенорезистом. Рассмотрены перспективные материалы (Si, Be, алмаз) составной преломляющей линзы, обладающие высокой прозрачностью в выбранном диапазоне длин волн. Показано, что переход к дифракционным и киноформным линзам минимизирует степень поглощения рентгеновского излучения в выбранном материале линзы на несколько порядков, что позволяет увеличить разрешающую способность вплоть до 14 nm. Ключевые слова: рентгеновская нанолитография, рентгеновское излучение, составная преломляющая линза, киноформные линзы, разрешающая способность, числовая апертура.
- D.V. Sirotin. Econ. Rev. Rus., 3 (69), 105 (2021). DOI: 10.37930/1990-9780-2021-3-69-105-122
- Н.Н. Куликова. Теория и практика общественного развития, 12, 87 (2017). DOI: 10.24158/tipor.2017.12.19
- V. Bakshi. EUV Lithography, Second edition (SPIE Press, Bellingham, Washington, USA, 2018)
- C. Smeets, N. Benders, F. Bornebroek, J. Carbone, R. Van Es, A. Minnaert, G. Salmaso, S. Young. Optical and EUV Nanolithography XXXVI, ed. by A. Lio, M. Burkhardt (SPIE, San Jose, United States, 2023), p. 9, DOI: 10.1117/12.2658046
- S. Amano, K. Masuda, A. Shimoura, S. Miyamoto, T. Mochizuki. Appl. Phys. B, 101 (1-2), 213 (2010). DOI: 10.1007/s00340-010-3997-7
- M. Richardson, C.-S. Koay, K. Takenoshita, C. Keyser, M. Al-Rabban. J. Vacuum Sci. Technol. B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena, 22 (2), 785 (2004). DOI: 10.1116/1.1667511
- N.I. Chkhalo, K.V. Durov, A.N. Nechay, A.A. Perekalov, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko. J. Surf. Investig., 17 (S1), S226 (2023). DOI: 10.1134/S1027451023070078
- В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, М.В. Свечников, Н.И. Чхало. УФН, 190 (1), 92 (2020). DOI: 10.3367/UFNr.2019.05.038623 [V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, M.V. Svechnikov, N.I. Chkhalo. Phys.-Usp., 63 (1), 83 (2020). DOI: 10.3367/UFNe.2019.05.038623]
- N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.N. Nechay, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, F. Schafers, M.G. Sertsu, A. Sokolov, M.V. Svechnikov, D.A. Tatarsky. Opt. Lett., 42 (24), 5070 (2017). DOI: 10.1364/OL.42.005070
- N.I. Chkhalo, N.N. Salashchenko. AIP Adv., 3 (8), 082130 (2013). DOI: 10.1063/1.4820354
- C. Montcalm, S. Bajt, P. Mirkarimi, E. Spiller, F. Weber, J. Folta. SPIE, 3331, 42 (1998). DOI: 10.1117/12.309600
- M.V. Svechnikov, N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.N. Nechay, D.E. Pariev, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, D.A. Tatarskiy, N.N. Salashchenko, Y.A. Vainer, M.V. Zorina, F. Schafers, M.G. Sertsu, A. Sokolov. Opt. Express, 26 (26), 33718 (2018). DOI: 10.1364/OE.26.033718
- D.S. Kuznetsov, A.E. Yakshin, J.M. Sturm, R.W.E. Van De Kruijs, E. Louis, F. Bijkerk. Opt. Lett., 40 (16), 3778 (2015). DOI: 10.1364/OL.40.003778
- C. Burcklen, S. de Rossi, E. Meltchakov, D. Dennetiere, B. Capitanio, F. Polack, F. Delmotte. Opt. Lett., 42 (10), 1927 (2017). DOI: 10.1364/OL.42.001927
- I.A. Artyukov, Y. Bugayev, O.Yu. Devizenko, R.M. Feschenko, Y.S. Kasyanov, V.V. Kondratenko, S.A. Romanova, S.V. Saveliev, F. Schafers, T. Feigl, Y.A. Uspenski, A.V. Vinogradov. Proc. SPIE, 5919, 59190E (2005). DOI: 10.1117/12.620037
- I. Snigireva, M. Polikarpov, A. Snigirev. Synchrotron Radiation News, 34 (6), 12 (2021). DOI: 10.1080/08940886.2021.2022387
- В.Г. Кон. Письма в ЖЭТФ, 76 (10), 701 (2002). [V.G. Kohn, JETP Lett., 76 (10), 600 (2002). DOI: 10.1134/1.1541043]
- V. Kohn, I. Snigireva, A. Snigirev. Opt. Commun., 216 (4-6), 247 (2003). DOI: 10.1016/S0030-4018(02)02285-X
- A. Snigirev, V. Kohn, I. Snigireva, B. Lengeler. Nature, 384 (6604), 49 (1996). DOI: 10.1038/384049a0
- A. Snigirev, V. Kohn, I. Snigireva, A. Souvorov, B. Lengeler. Appl. Opt., 37 (4), 653 (1998). DOI: 10.1364/AO.37.000653
- V.G. Kohn, M.S. Folomeshkin. J. Synchrotron Rad., 28 (2), 419 (2021). DOI: 10.1107/S1600577520016495
- V. Aristov, M. Grigoriev, S. Kuznetsov, L. Shabelnikov, V. Yunkin, T. Weitkamp, C. Rau, I. Snigireva, A. Snigirev, M. Hoffmann, E. Voges. Appl. Phys. Lett., 77 (24), 4058 (2000). DOI: 10.1063/1.1332401
- D. Faklis, G.M. Morris. Appl. Opt., 34 (14), 2462 (1995). DOI: 10.1364/AO.34.002462
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
