Вышедшие номера
Роль вторичных электронов из участков наноканавки в ее РЭМ изображении
Ларионов Ю.В.1, Озерин Ю.В.1
1Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, Москва, Россия
Email: luv@kapella.gpi.ru
Поступила в редакцию: 22 августа 2023 г.
В окончательной редакции: 26 декабря 2023 г.
Принята к печати: 1 апреля 2024 г.
Выставление онлайн: 31 мая 2024 г.

Особенности рассеяния вторичных электронов в наноканавках были выявлены экспериментально по итогам их сканирования в низковольтном растровом электроном микроскопе. Значимая роль в генерации потока медленных вторичных электронов (МВЭ), создающих изображение в микроскопе, принадлежит вторичным электронам, рассеиваемым одними участками поверхности наноканавки к другим участкам ("внешним" электронам). Поток МВЭ от "внешних" вторичных электронов добавляется к потоку МВЭ от сканируемой точки, что приводит к модификации потока МВЭ, эмитируемого только этой точкой. Это явление особенно значимо для наноканавок с крутыми боковыми стенками. Заметный вклад в рассеяние "внешних" вторичных электронов вносит дно канавки. Вторичные электроны, рассеиваемые внутри канавки, способны покидать ее, перемещаться вдоль поверхности образца, вызывая эмиссию вторичных электронов и из соседних участков рельефной структуры. Это приводит к зависимости изображения наноканавки от расположения соседних канавок. "Внешние" вторичные электроны влияют на эмиссию МВЭ из поверхности, модифицируя состояние ее поверхностных зарядовых ловушек. Ключевые слова: нанометрология, низковольтный растровый электронный микроскоп, рельефная структура, поверхностные зарядовые состояния.
  1. Z.J. Ding, C. Li, B. Da, J. Liu. Sci. Technol. Adv. Mater., 22 (1), 932 (2021). DOI: 10.1080/14686996.2021.197659
  2. L. Grella, G. Lorusso, D.L. Adler. Scanning, 25, 300 (2003). DOI: 10.1002/sca.4950250606
  3. R. Dixon, H. Bosse. Recommendations of CCL/WG-N on: Realization of SI Metre Using Silicon Lattice and Transmission Electron Microscopy for Dimensional Nanometrology (Version 1CCL-GD-MeP-2 30/04/2019), documents/20126/41489670/CCL
  4. J. Villarubia. NIST Simulation of E-beam Inspection and CD-SEM in-line Metrology, Final Report (December 10th (2010), (Accessed August 17, 2023), http://ismi.sematech.org
  5. И.М. Бронштейн, Б.С. Фрайман. Вторичная электронная эмиссия (Наука, М., 1969), 407 с
  6. P-F. Staub. J. Phys. D, 27, 1533 (1994). DOI: 10.1007/s12043-007-0054
  7. Y.G. Li, S.F. Mao, Z.J. Ding. Monte Carlo Simulation of SEM and SAM Images. In: Applications of Monte Carlo Method in Science and Engineering (2011), 231 p. DOI: 10.5772/1617
  8. M. Kadowaki, A. Hamaguchi, H. Abe, Y. Yamazaki, S. Borisov, A. Ivanchikov, S. Babin. Proc. SPIE, 7272 (72723I), 1 (2009). DOI: 10.1117/12.814036
  9. K. Kanaya, S. Okayama. J. Phys. D, 5 (1), 43 (1972). DOI: 10.1088/0022-3727/5/1/308
  10. Э.И. Рау, А.А. Татаринцев, Е.Ю. Зыкова, И.П. Иваненко, С.Ю. Купреенко, К.Ф. Миннебаев, А.А. Хайдаров. ФТТ, 59 (8), 1504 (2017). DOI: 10.21883 /FTT.2017.08.44749.460
  11. Ю.В. Ларионов, Ю.В. Озерин. ФТТ, 62 (6), 947 (2020). DOI: 10.21883/FTT.2020.06.49356.608
  12. Ю.А. Новиков, А.В. Раков. Труды ИОФРАН. Механизмы вторичной электронной эмиссии рельефной поверхности (Наука, М., 2006), с. 143

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.