Вышедшие номера
Влияние термического отжига на свойства гетероструктур Ga2O3/GaAs:Cr
Ministry of Education and Science of the Russian Federation, № 220, 075-15-2022-1132
Калыгина В.М. 1, Киселева О.С.1, Копьев В.В. 1, Кушнарев Б.О. 1, Олейник В.Л. 1, Петрова Ю.С. 1, Цымбалов А.В. 1
1Национальный исследовательский Томский государственный университет, Томск, Россия
Email: Kalygina@ngs.ru
Поступила в редакцию: 2 июня 2023 г.
В окончательной редакции: 8 сентября 2023 г.
Принята к печати: 11 сентября 2023 г.
Выставление онлайн: 22 октября 2023 г.

Приведены данные о чувствительности гетероструктур Ga2O3/GaAs:Cr к длинноволновому и ультрафиолетовому (λ=254 nm) излучениям. Образцы получены высокочастотным магнетронным напылением пленки оксида галлия на не нагретые подложки GaAs:Cr. Пластины арсенида галлия с пленкой Ga2O3 делили на две части: одну половину не подвергали отжигу, а вторую отжигали в аргоне при 500oC в течение 30 min. Независимо от наличия или отсутствия темообработки исследованные структуры проявляли фотовольтаический эффект и способны работать в автономном режиме. Показано, что заметная чувствительность к длинноволновому излучению появляется в образцах только после термического отжига пленок оксида галлия. Времена отклика и восстановления таких детекторов УФ излучения не превышают 1 s. Ключевые слова: темновой ток, фототок, ультрафиолетовое излучение, структуры Ga2O3/GaAs:Cr, автономный режим работы, отжиг.
  1. W. Mi, J. Ma, Z. Li, C. Luan, H. Xiao. J. Mater. Sci.: Mater. Electron, 26, 7889 (2015). DOI: 10.1007/s10854-015-3440-2
  2. Y. Zhang, F. Alema, A. Mauze, O.S. Koksaldi, R. Miller, A. Osinsky, J.S. Speck, APL Mater., 7, 022506 (2019). https://doi.org/10.1063/1.5058059
  3. T. Uchida, R. Jinno, S. Takemoto, K. Kaneko, S. Fujita, Jpn. J. Appl. Phys., 57 (4), 040314 (2018). DOI: 10.7567/JJAP.57.040314
  4. X. Wang, Z. Chen, D. Guo, X. Zhang, Z. Wu, P. Li, W. Tang. Opt. Mater. Express, 8 (9), 2918 (2018). https://doi.org/10.1364/OME.8.002918
  5. Z. Li, Z. An, Y. Xu, Y. Cheng, Y. Cheng, D. Chen, Q. Feng, S. Xu, J. Zhang, C. Zhang, Y. Hao. J. Mater. Sci., 54, 10335 (2019)
  6. M.-Q. Lia, N. Yanga, G.-G. Wanga, H.-Y. Zhanga, J.-C.Hana. Appl. Surf. Sci., 471, 694 (2019). https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.12.045
  7. В.М. Калыгина, В.В. Вишникина, Ю.С. Петрова, И.А. Прудаев, Т.М. Яскевич. ФТП, 49 (3), 357 (2015)
  8. J. Yua, J. Louc, Z. Wang, S. Jic, J.Chend, M. Yub, B. Peng, Y. Hu, L. Yuan, Y. Zhang, R. Jia. J. Alloys Compd., 872, 159508 (2021)
  9. M. Hong, J.P. Mannaerts, J.E. Bower, J. Kwo, M. Passlack, W.-Y. Hwang, L.W. Tu. J. Cryst. Growth, 175, 422 (1997)
  10. M. Holland, C.R. Stanley, W. Reid, R.J.W. Hill, D.A.J. Moran, I. Thayne, G.W. Paterson, A.R. Long. J. Vac. Sci. Technol. B, 25, 1706 (2007). https://doi.org/10.1116/1.2778690
  11. J. Hwang, C.C. Chang, M.F. Chen, C.C. Chen, K. Lin, F.C. Tang, M. Hong, J. Kwo. J. Appl. Phys., 94 (1), 348 (2003)
  12. P.D. Ye, G.D. Wilk, B. Yang, J. Kwo, G. Chu, S. Nakahara, J.P. Mannaerts, M. Hong, K.K. Ng, J.D. Bu. Appl. Phys. Lett., 83 (1), 180 (2003)
  13. X. Zhang, D. Jiang, M. Zhao, H. Zhang, M. Li, M. Xing, J. Han, A.E. Romanov. J. Phys.: Conf. Series, 1965, 012066 (2021). DOI: 10.1088/1742-6596/1965/1/012066
  14. B.R. Tak, M.-M. Yang, M. Alexe, R. Singh. Cryst., 11 (9), 1046 (2021). https://doi.org/10.3390/cryst11091046
  15. L. Huang, Q. Feng, G. Han, F. Li, X. Li, L.Fang, X. Xing, J. Zhang, Y. Hao. IEEE Photon. J., 9 (4), 6803708 (2017)
  16. Y. Qin, S. Long, H. Dong, Q. He, G. Jian, Y. Zhang, X. Hou, P. Tan, Z. Zhang, H. Lv, Q. Liu, M. Liu. Chin. Phys. B, 28 (1), 018501 (2019). DOI: 10.1088/1674-1056/28/1/018501

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.