Формирование плазмы в атмосфере азота импульсным электронным пучком вблизи диэлектрической мишени при форвакуумных давлениях
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации, FEWM-2023-0012
Казаков А.В.
1, Окс Е.М.
1,2, Панченко Н.А.
11Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия
2Институт сильноточной электроники СО РАН, Томск, Россия
Email: andrykazakov@gmail.com, oks@fet.tusur.ru, PanchenkoNA@vtomske.ru
Поступила в редакцию: 18 мая 2023 г.
В окончательной редакции: 20 июля 2023 г.
Принята к печати: 20 июля 2023 г.
Выставление онлайн: 25 августа 2023 г.
Исследованы особенности процессов формирования пучковой плазмы вблизи диэлектрической мишени из алюмооксидной керамики при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений (4-15 Pa). Установлено, что плотность пучковой плазмы вблизи облучаемой мишени выше, чем при "свободном" распространении электронного пучка. Наблюдаемое приращение плотности плазмы зависит от тока эмиссии (тока пучка), давления газа и ускоряющего напряжения. Влияние диэлектрической мишени на плотность пучковой плазмы обусловлено эмиссией электронов с поверхности мишени и некомпенсированным отрицательным потенциалом на поверхности мишени, который определяет энергию эмитированных электронов. Увеличение давления газа привело к меньшему приращению плотности пучковой плазмы вследствие уменьшения абсолютного значения отрицательного потенциала. Варьированием тока электронного пучка и ускоряющего напряжения можно контролировать плотность пучковой плазмы. Ключевые слова: пучковая плазма, электронный пучок, форвакуумный диапазон давлений, плазменный источник электронов.
- P.K. Chu, X.P. Lu. Low Temperature Plasma Technology: Methods and Applications (CRC Press, Boca Raton, 2013)
- E.B. Hooper Jr, O.A. Anderson, P.A. Willmann. Phys. Fluids, 22 (12), 2334 (1979). DOI: 10.1063/1.862545
- K.S. Klopovsky, A.V. Mukhovatova, A.M. Popov, N.A. Popov, O.B. Popovicheva, T.V. Rakhimova. J. Phys. D: Appl. Phys., 27 (7), 1399 (1994). DOI: 10.1088/0022-3727/27/7/010
- S.G. Walton, C. Muratore, D. Leonhardt, R.F. Fernsler, D.D. Blackwell, R.A. Meger. Surf. Coatings Technol., 186 (1-2), 40 (2004). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2004.04.007
- E.H. Lock, R.F. Fernsler, S.G. Walton. Plasma Sources Sci. Technol., 17 (2), 025009 (2008). DOI: 10.1088/0963-0252/17/2/025009
- E.H. Lock, R.F. Fernsler, S.P. Slinker, I.L. Singer, S.G. Walton. J. Phys. D: Appl. Phys., 47, 425206 (2014). DOI: 10.1088/0022-3727/47/42/425206
- J.A. Aguilera, C. Aragon. Spectrochim. Acta Part B: Atomic Spectroscopy, 59 (12), 1861 (2004). DOI: 10.1016/j.sab.2004.08.003
- L.J. Radziemski. Lasers-Induced Plasmas and Applications (CRC Press, Boca Raton, 2020)
- T. Vasilieva, S. Lopatin, V. Varlamov, V. Miasnikov, A.M. Hein, M. Vasiliev. Pure Appl. Chem., 88 (9), 873 (2016). DOI: 10.1515/pac-2016-0603
- T.M. Vasilieva, I.K. Naumova, O.V. Galkina, E.V. Udoratina, L.A. Kuvschinova, M.N. Vasiliev, Khin Maung Htay, Htet Ko Ko Zaw. IEEE Transactions on Plasma Sci., 48 (4), 1035 (2020). DOI: 10.1109/TPS.2020.2980200
- A.S. Klimov, I.Yu. Bakeev, E.M. Oks, V.T. Tran, A.A. Zenin. Vacuum, 196, 110722 (2022). DOI: 10.1016/j.vacuum.2021.110722
- D. Leonhardt, C. Muratore, S.G. Walton, D.D. Blackwell, R.F. Fernsler, R.A. Meger. Surf. Coatings Technol., 177, 682 (2004). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2003.08.007
- S.G. Walton, D.R. Boris, S.C. Hernandez, E.H. Lock, T.B. Petrova, G.M. Petrov, E.A. Joseph. Microelectron. Engineer., 168, 89 (2017). DOI: 10.1016/j.mee.2016.11.003
- Н.В. Гаврилов, А.И. Меньшаков. ЖТФ, 82 (3), 88 (2012). [N.V. Gavrilov, A.I. Men'shakov. Tech. Phys., 57 (3), 399 (2012). DOI: 10.1134/S1063784212030073]
- T. Vasilieva, I. Sokolov, A. Sigarev, A. Tun Win. Open Chem., 13 (1), 204 (2015). DOI: 10.1515/chem-2015-0015
- S. Ghosh, D.R. Boris, S.C. Hernandez, C.A. Zorman, S.G. Walton, R.M. Sankaran. Plasma Processes and Polymers, 14 (12), 1700079 (2017). DOI: 10.1002/ppap.201700079
- V.O. Konstantinov, V.G. Shchukin, R.G. Sharafutdinov, V.M. Karsten, G.G. Gartvich, O.I. Semenova. Plasma Phys. Reports, 36, 1278 (2010). DOI: 10.1134/S1063780X10130313
- R.G. Sharafutdinov, V.O. Konstantinov, V.I. Fedoseev, V.G. Shchukin. Plasma Phys. Reports, 44, 886 (2018). DOI: 10.1134/S1063780X18090143
- R. Nishio, K. Tuchida, M. Tooma, K. Suzuki. J. Appl. Phys., 72 (10), 4548 (1992). DOI: 10.1063/1.352334
- А.А. Зенин, А.С. Климов, В.А. Бурдовицин, Е.М. Окс. Письма в ЖТФ, 39 (10), 9 (2013). [A.A. Zenin, A.S. Klimov, V.A. Burdovitsin, E.M. Oks. Tech. Phys. Lett., 39 (5), 454 (2013). DOI: 10.1134/S1063785013050271]
- В.А. Бурдовицин, И.Ю. Бакеев, А.А. Зенин, Д.Б. Золотухин, А.В. Казаков, А.С. Климов, А.В. Медовник, Е.М. Окс, А.В. Тюньков. Доклады ТУСУРа, 19 (2), 5 (2016). DOI: 10.21293/1818-0442-2016-19-2-5-10
- A.V. Kazakov, A.V. Medovnik, E.M. Oks, N.A. Panchenko. Rev. Sci. Instruments, 91, 093304 (2020). DOI: 10.1063/5.0023172
- V.A. Burdovitsin, A.S. Klimov, A.V. Medovnik, E.M. Oks. Plasma Sources Sci. Technol., 19 (5), 055003 (2010). DOI: 10.1088/0963-0252/19/5/055003
- В.А. Бурдовицин, В.С. Гулькина, А.В. Медовник, Е.М. Окс. ЖТФ, 83 (12), 134 (2013). [V.A. Burdovitsin, V.S. Gul'kina, A.V. Medovnik, E.M. Oks. Tech. Phys., 58 (12), 1837 (2013). DOI: 10.1134/S1063784213120086]
- V.A. Burdovitsin, E.M. Oks, D.B. Zolotukhin. J. Phys. D: Appl. Phys., 51 (30), 304006 (2018). DOI: 10.1088/1361-6463/aace4a
- А.С. Климов, М.И. Ломаев, Е.М. Окс, А.П. Андрейчик. ЖТФ, 87 (2), 192 (2017). [A.S. Klimov, E.M. Oks, A.P. Andreichik, M.I. Lomaev. Tech. Phys., 62 (2), 218 (2017). DOI: 10.1134/S1063784217020128]
- D.B. Zolotukhin, V.A. Burdovitsin, E.M. Oks. Plasma Sources Sci. Technol., 25 (2), 015001 (2015). DOI: 10.1088/0963-0252/25/1/015001
- V.P. Konovalov, M.A. Skorik, E.E. Son. Proceedings of XX International Conference on Phenomena in Ionized Gases (Italy, 1991), p. 405-406
- О.В. Козлов. Электрический зонд в плазме (Атомиздат, М., 1969)
- Ю.П. Райзер. Физика газового разряда (Наука, М., 1992)
- R.S. Mangina, J.M. Ajello, R.A. West, D. Dziczek. Astrophys. J. Supplement Series, 196 (1), 13 (2011). DOI: 10.1088/0067-0049/196/1/13
- V. Guerra, P.A. Sa, J. Loureiro. Europ. Phys. J.-Appl. Phys., 28, 125 (2004). DOI: 10.1051/epjap:2004188
- W. Hwang, Y.K. Kim, M.E. Rudd. J. Chem. Phys., 104, 2956 (1996). DOI: 10.1063/1.471116
- D.E. Shemansky, X. Liu. J. Geophys. Research: Space Phys., 110 (A7), A073071 (2005). DOI: 10.1029/2005JA011062
- Y. Itikawa. J. Phys. Chem. Refer. Data, 35, 31 (2006). DOI: 10.1063/1.1937426
- S.G. Walton, D.R. Boris, S.C. Hernandez, E.H. Lock, Tz.B. Petrova, G.M. Petrov, R.F. Fernsler. ECS J. Solid State Sci. Technol., 4 (6) N5033 (2015). DOI: 10.1149/2.0071506jss
- Y.-K. Kim, J.-P. Desclaux. Phys. Rev. A, 66, 012708 (2002). DOI: 10.1103/PhysRevA.66.012708
- А.В. Тюньков, А.А. Андронов, Ю.Г. Юшков, Д.Б. Золотухин. Письма в ЖТФ, 49 (10), 13 (2023). DOI: 10.21883/PJTF.2023.10.55427.19539
- J. Cazaux. Nucl. Instruments and Methods in Phys. Res. Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 244 (2), 307 (2006). DOI: 10.1016/j.nimb.2005.10.006
- N.R. Rajopadhye, V.A. Joglekar, V.N. Bhoraskar, S.V. Bhoraskar. Solid State Commun., 60 (8), 675 (1986). DOI: 10.1016/0038-1098(86)90266-8
- V.A. Burdovitsin, D.B. Zolotukhin, E.M. Oks, N.A. Panchenko. J. Phys. D: Appl. Phys., 52 (28), 285204 (2019). DOI: 10.1088/1361-6463/ab1381
- E.I. Rau, E.N. Evstaf'eva, M.V. Andrianov. Phys. Solid State, 50, 621 (2008). DOI: 10.1134/S1063783408040057
- M. Kaminsky. Atomic and Ionic Impact Phenomena on Metal Surfaces (Academic, NY., 1965)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.