Вышедшие номера
Исследование технологии изготовления мощных ИК (850 nm) светодиодов, получаемых методом переноса AlGaAs-GaAs-гетероструктуры на подложку-носитель
Малевская А.В.1, Калюжный Н.А.1, Солдатенков Ф.Ю.1, Левин Р.В.1, Салий Р.А.1, Малевский Д.А.1, Покровский П.В.1, Ларионов В.Р.1, Андреев В.М.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: amalevskaya@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 23 июня 2022 г.
В окончательной редакции: 10 ноября 2022 г.
Принята к печати: 11 ноября 2022 г.
Выставление онлайн: 12 декабря 2022 г.

Проведена разработка технологии переноса AlGaAs/GaAs-гетероструктур, изготовленных методом МОС-гидридной эпитаксии, на GaAs-подложку-носитель с использованием серебросодержащей пасты или Au-In-компаунда. Исследован процесс формирования фронтального омического контакта к GaAs n-типа проводимости на основе контактных систем Au(Ge)/Ni/Au и Pd/Ge/Au с удельным переходным контактным сопротивлением (2-5)·10-6 Ω·cm2. Выполнен анализ влияния технологии переноса гетероструктуры и процесса формирования фронтального омического контакта на параметры ИК светодиодов. Минимальное последовательное сопротивление светодиодов площадью 1 mm2 составило 0.16 Ω. Достигнуто значение оптической мощности 270 mW при токе 1.5 A. Ключевые слова: AlGaAs/GaAs-гетероструктура, светодиод, перенос на подложку-носитель, Au-In-компаунд, омические контакты.