Журнал технической физики

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2025
- 1 2 3 4
2024
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Зондовое in situ измерение параметров плазмы при нанесении покрытий бора магнетронным методом

DOI: 10.21883/JTF.2023.01.54067.219-22

Переводная версия: 10.21883/TP.2023.01.55443.219-22

Министерство науки и высшего образования Российской Федерации, Федеральная научно-техническая программа развития синхротронных и нейтронных исследований и исследовательской инфраструктуры на 2019-2027 годы, 075-15-2021-1348

Гушенец В.И.¹, Бугаев А.С.¹, Визирь А.В.¹, Окс Е.М.^1,2, Николаев А.Г.¹, Юшков Г.Ю.¹

¹Институт сильноточной электроники СО РАН, Томск, Россия Institute of High Current Electronics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Tomsk, Russia

Institute of High Current Electronics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Tomsk, Russia

²Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия Tomsk State University of Control Systems and Radioelectronics, Tomsk, Russia

Tomsk State University of Control Systems and Radioelectronics, Tomsk, Russia

Email: gvi@opee.hcei.tsc.ru, bugaev@opee.hcei.tsc.ru, vizir@opee.hcei.tsc.ru, oks@opee.hcei.tsc.ru, nik@opee.hcei.tsc.ru, gyushkov@mail.ru

Поступила в редакцию: 7 сентября 2022 г.

В окончательной редакции: 12 октября 2022 г.

Принята к печати: 14 октября 2022 г.

Выставление онлайн: 12 декабря 2022 г.

PDF версия

Абстракт
Литература
Статистика просмотров

Описаны особенности зондовой методики и представлены результаты измерений параметров плазмы, генерируемой планарной магнетронной распылительной системой с мишенью из чистого бора в процессе нанесения покрытий. Особенность зондовых измерений заключалась в использовании нагрева собирающей поверхности одиночного ленгмюровского зонда. Нагрев приводил к снижению электрического сопротивления пленки бора на поверхности, что обеспечивало возможность проведения in situ зондовых измерений параметров плазмы магнетронного разряда в течение всего процесса нанесения покрытия бора. Ключевые слова: параметры плазмы, зондовый метод, планарный магнетрон, пленки бора.

I. Campos, M. Palomar, A. Amador, R. Ganem, J. Martinez. Surf. Coat. Technol., 201, 2438 (2006). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2006.04.017
C.V. Robino, M.J. Cieslak. Metall. Mater. Trans. A, 26 (7), 1673 (1995). DOI: 10.1007/BF02670754
M. Kulka, N. Makuch, A. Piasecki. Surf. Coat. Technol., 325, 515 (2017). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2017.07.020
A.N. Simonenko, V.A. Shestakov, V.N. Poboinya. Metal Science and Heat Treatment, 24 (5), 360 (1982). DOI: 10.1007/BF00782814
B. Sarma, N. Tikekar, K.S. Ravi Chandran. Ceramics International, 38 (8), 6795 (2012). DOI: 10.1016/j.ceramint.2012.05.077
E. Rodri guez Cabeo, G. Laudien, S. Biemer, K.-T. Rie, S. Hoppe. Surf. Coat. Technol., 116-119, 229 (1999). DOI: 10.1016/S0257-8972(99)00116-4
E.M. Oks, A. Anders, A.G. Nikolaev, Yu.G. Yushkov. Rev. Sci. Instrum., 88, 043506 (2017). DOI: 10.1063/1.4980149
E.S. Greiner, J.A. Gutowski. J. Appl. Phys., 28 (11), 1364 (1957). DOI: 10.1063/1.1722660
V.I. Gushenets, E.M. Oks, K.P. Savkin, A.V. Vizir, G.Yu. Yushkov, A. Hershcovitch, T.V. Kulevoy. Rev. Sci. Instrum., 81, 02B303 (2010). DOI: 10.1063/1.3258029
Xu Sun, Xiaofei Liu, Jun Yin, Jin Yu, Yao Li, Yang Hang, Xiaocheng Zhou, Maolin Yu, Jidong Li, Guoan Tai, Wanlin Guo. Adv. Functional Mater., 27 (19), 1603300 (2017). DOI: 10.1002/adfm.201603300
H.M. Mott-Smith, I. Langmuir. Phys. Rev., 28 (4), 727 (1926). DOI: 10.1103/PhysRev.28.727
A.V. Vizir, A.G. Nikolaev, E.M. Oks, V.P. Frolova, A.A. Cherkasov, M.V. Shandrikov, G.Yu. Yushkov. Russ. Phys. J., 64 (12), 2177 (2022). DOI: 10.1007/s11182-022-02574-9
P.V. Kashtanov, B.M. Smirnov, R. Hippler. Physics-Uspekhi, 50 (5), 455 (2007). DOI: 10.1070/PU2007v050n05ABEH006138
T.E. Sheridan, M.J. Goeckner, J. Goree. J. Vac. Sci. Technol. A, 9 (3), 688 (1991). DOI: 10.1116/1.577344
V. Karzin, V. Smirnov. J. Phys.: Conf. Ser., 729, 012021 (2016). DOI: 10.1088/1742-6596/729/1/012021
D.J. Field, S.K. Dew, R.E. Burrell. J. Vac. Sci. Technol. A, 20 (6), 2032 (2002). DOI: 10.1116/1.1515800
Bon-Woong Koo, Noah Hershkowitz, Moshe Sarfaty. J. Appl. Phys., 86 (3), 1213 (1999). DOI: 10.1063/1.370873
W. Lochte-Holtgreven (Editor) Plasma Diagnostics (North-Holland, Amsterdam, 1968)
R.L. Merlino. Am. J. Phys., 75 (12), 1078 (2007). DOI: 10.1119/1.2772282
D. Bohm Chap. 3 in book The Characteristics of Electrical Discharges in Magnetic Fields A. Guthrie, R.K. Wakerling (Eds.), (McGraw-Hill, 1949)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель