Вышедшие номера
Некоторые особенности конденсации атомов кремния на поверхности монокристалла вольфрама
Переводная версия: 10.1134/S1063784220030081
грантов нет
грантов нет
грантов нет
грантов нет
грантов нет
грантов нет
Голубев О.Л.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: O.Golubev@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 25 июля 2019 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 2020 г.

С помощью методов полевой эмиссионной микроскопии изучена конденсация Si на поверхности W при различных температурах подложки T и количествах n моноатомных слоев осажденного конденсата. При низких T~600 K на поверхности формируется низкотемпературный монослой Si со структурой чистого W, тогда как при T≥1000 K формируется другая структура высокотемпературного монослоя или поверхностного силицида. Низкотемпературный монослой и поверхностный силицид различаются также и ориентирующим действием при наращивании слоев Si. В случае конденсации на низкотемпературный монослой собственные кристаллиты Si формируются уже начиная с третьего монослоя n≥3, тогда как при конденсации на поверхностный силицид рост кристаллитов Si происходит начиная с n≥300 монослоев. Определены величины энергий активации Qdif объемной диффузии Si в объем W и энергии десорбции Qdes атомов Si с поверхности W. Ключевые слова: кремний, вольфрам, адсорбция, моноатомный слой.