Исследование возможностей метода газофазной эпитаксии из металлорганических соединений для изготовления тонких слоев InAs/GaSb
Левин Р.В.1, Пушный Б.В.1, Федоров И.В.1, Усикова А.А.1, Неведомский В.Н.
1, Баженов Н.Л.1, Мынбаев К.Д.
1, Павлов Н.В.1, Зегря Г.Г.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: Lev@vpegroup.ioffe.ru, pushnyi@vpegroup.ioffe.ru, kingwash@yandex.ru, Usikova@mail.ioffe.ru, nevedom@mail.ioffe.ru, Bazhnil.Ivom@mail.ioffe.ru, mynkad@mail.ioffe.ru, zegrya@theory.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 29 ноября 2018 г.
В окончательной редакции: 29 ноября 2018 г.
Принята к печати: 10 апреля 2019 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2019 г.
Исследованы возможности метода газофазной эпитаксии из металлорганических соединений (МОСГФЭ) для изготовления структур с тонкими (1-2 nm) чередующимися слоями InAs/GaSb на подложке GaSb. Свойства структур были изучены методами просвечивающей электронной микроскопии и фото- и электролюминесценции. Было установлено, что при использованных условиях роста в активной области структур происходило формирование двух твердых растворов GaInAsSb различных составов. Для полученной системы было характерным излучение на длине волны 4.96 μm при температуре 77 K. Результаты работы демонстрируют новые возможности метода МОСГФЭ для инженерии запрещенной зоны полупроводниковых структур на основе InAs/GaSb, предназначенных для создания приборов оптоэлектроники, работающих в инфракрасном диапазоне длин волн. Ключевые слова: узкозонные полупроводники AIIIBV, напряженные сверхрешетки, МОСГФЭ, электролюминесценция.
- Smith D.L., Mailhiot C. // J. Appl. Phys. 1987. Vol. 62. P. 2545--2548
- Youngdale E.R., Meyer J.R., Hoffman C.A., Bartoli F.J., Grein C.H., Young P.M., Ehrenreich H., Miles R.H., Chow D.H. // Appl. Phys. Lett. 1994. Vol. 64. P. 3160--3162
- Zegrya G.G., Andreev A.D. // Appl. Phys. Lett. 1995. Vol. 67. P. 2681--2683
- Ning Z.-D., Liu S.-M., Luo S., Ren F., Wang F., Yang T., Liu F.-Q., Wang Z.-G., Zhao L.-C. // Mater. Lett. 2016. Vol. 164. P. 213--216. DOI: 10.1016/j.matlet.2015.10.140
- Keen J.A., Repiso E., Lu Q., Kesaria M., Marshall A.R.J., Krier A. // Infr. Phys. Technol. 2018. Vol. 93. P. 375--380. DOI: 10.1016/j.infrared.2018.08.001
- Mynbaev K.D., Shilyaev A.V., Semakova A.A., Bykhanova E.V., Bazhenov N.L. // Opto-Electron. Rev. 2017. Vol. 25. N 3. P. 209--214. DOI: 10.1016/j.opelre.2017.06.005
- Wu J., Xu Z., Chen J., He L. // Infr. Phys. Technol. 2018. Vol. 92. P. 18--23. DOI: 10.1016/j.infrared.2018.05.004
- Cervera C., Ribet-Mohamed I., Taalat R., Perez J.P., Christol P., Rodriguez J.B. // J. Electron. Mater. 2012. Vol. 41. P. 2714--2718. DOI: 10.1007/s11664-012-2035-4
- Gautam N., Kim H.S., Kutty M.N., Plis E., Dawson L.R., Krishna S. // Appl. Phys. Lett. 2010. Vol. 96. P. 231107. DOI: 10.1063/1.3446967
- Wei Y., Gin A., Razeghi M., Brown G.J. // Appl. Phys. Lett. 2002. Vol. 80. P. 3262--3264
- Rogalski A., Martyniuk P., Kopytko M. // Appl. Phys. Rev. 2017. Vol. 2. P. 031304. DOI: 10.1063/1.4999077
- Jung D., Bank S., Lee M.L., Wasserman D. // J. Optics. 2017. Vol. 19. P. 123001. DOI: 10.1088/2040-8986/aa939b
- Li X., Zhao Y., Wu Q., Teng Y., Hao X., Huang Y. // J. Cryst. Growth. 2018. Vol. 502. P. 71--75. DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2018.09.003
- Huang Y., Ryou J.-H., Dupuis R.D., D'Costa V.R., Steenbergen E.H., Fan J., Zhang Y.-H., Petschke A., Mandl M., Chuang S.-L. // J. Cryst. Growth. 2011. Vol. 314. P. 92--96. DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2010.11.003
- Huang Y., Ryou J.-H., Dupuis R.D., Petschke A., Mandl M., Chuang S.-L. // Appl. Phys. Lett. 2010. Vol. 96. P. 251107. DOI: 10.1063/1.3456386
- Huang Y., Ryou J.-H., Dupuis R.D., Zuo D., Kesler B., Chuang S.-L., Hu H., Kim K.-H., Lu Y.T., Hsieh K.C., Zuo J.-M. // Appl. Phys. Lett. 2011. Vol. 99. P. 011109. DOI: 10.1063/1.3609240
- Chang Y., Wang T., Yin F., Wang J., Song Z., Wang Y., Yin J. // Infr. Phys. Technol. 2011. Vol. 54. P. 478--481. DOI: 10.1016/j.infrared.2011.07.009 [6
- Barletta P., Bulman G., Dezsi G., Venkatasubramanian R. // Thin Sol. Films. 2012. Vol. 520. P. 2170--2172. DOI: 10.1016/j.tsf.2011.10.007
- Li L.-G., Liu S.-M., Luo S., Yang T., Wang L.-J., Liu F.-Q., Ye X.-L., Xu B., Wang Z.-G. // Nanosc. Res. Lett. 2012. Vol. 7. P. 160--166. DOI: 10.1186/1556-276X-7-160
- Li L.-G., Liu S.-M., Luo S., Yang T., Wang L.-J., Liu J.-Q., Liu F.-Q., Ye X.-L., Xu B. // J. Cryst. Growth. 2012. Vol. 359. P. 55--59. DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2012.08.009
- Левин Р.В., Усикова А.А., Неведомский В.Н., Баженов Н.Л., Мынбаев К.Д., Пушный Б.В., Зегря Г.Г. // Тез. докл. XXV Междунар. научно-технической конф. по фотоэлектронике и приборам ночного видения (М., Россия, 2018.) T. 1. C. 247
- Патент РФ N 2611692. Способ изготовления наногетероструктуры со сверхрешеткой / В.М. Андреев, Р.В. Левин, Б.В. Пушный. 28.02.2017
- Taalat R., Rodriguez J.-В., Delmas M., Christol Ph. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2014. Vol. 47. P. 015101. DOI: 10.1088/0022-3727/47/1/015101
- Christol P., Delmas M., Rossignol R., Rodriguez J.B. // Phys. Chem. Biophys. 2015. Vol. 5. P. 1000197. DOI: 10.4172/2161-0398.1000197
- Bevan M.J., Woodhouse K.T. // J. Cryst. Growth. 1984. Vol. 68. N 1. P. 254--261
- Vurgaftman I., Meyer J.R., Ram-Mohan L.R. // J. Appl. Phys. 2001. Vol. 89. P. 5815--5875
- Mynbaev K.D., Bazhenov N.L., Semakova A.A., Chernyaev A.V., Kizhaev S.S., Stoyanov N.D., Bougrov V.E., Lipsanen H., Salikhov Kh.M. // Infr. Phys. Technol. 2017. Vol. 85. P. 246--250. DOI: 10.1016/j.infrared.2017.07.003
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.