Журнал технической физики

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2025
- 1 2 3 4 5
2024
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Атомно-слоевое осаждение тонких пленок на 3D-наноструктуры: влияние наклона стенок и аспектного отношения тренчей

DOI: 10.21883/JTF.2018.10.46504.2550

Переводная версия: 10.1134/S1063784218100092

Фадеев А.В.¹, Руденко К.В.¹

¹Физико-технологический институт Российской академии наук, Москва, Россия Institute of Physics and Technology, Russian Academy of Sciences, Moscow, Russia

Institute of Physics and Technology, Russian Academy of Sciences, Moscow, Russia

Email: AlexVFadeev@gmail.com

Поступила в редакцию: 10 ноября 2017 г.

Выставление онлайн: 19 сентября 2018 г.

PDF версия

Абстракт
Литература
Статистика просмотров

Развита теоретическая модель, предсказывающая пространственный профиль пленки, выращиваемой на стенках методом атомно-слоевого осаждения. Модель учитывает возможность исходного отклонения стенок тренча от вертикали, а также динамическое изменение аспектного отношения структуры по мере роста пленки в наноразмерных тренчах. Теоретически исследована зависимость результирующей толщины и конформности пленки от параметров процесса атомно-слоевого осаждения.

Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials / Eds. by N. Pinna, M. Knez. Wiley-VCH Verlag \& Co. KGaA, 2012. 435 p
Wulu C., Saraswat R.C., McVittie J.P. // J. Electrochem. Soc. 1991. Vol. 138. N 6. P. 1831--1840
Elam J.W., Routkevitch D., Mardilovich P.P., George S.M. // Chem. Mater. 2003. Vol. 15. P. 3507--3517
Rose M., Bartha J.W. // Appl. Surf. Sci. 2009. Vol. 255. P. 6620--6623
Knoops H.C.M., Langereis E., van de Sanden M.C.M., Kessels M.M. // J. Electrochem. Soc. 2010. Vol. 57. N 12. P. G241--G249
Yanguas-Gil A., Elam J.W. // ECS Trans. 2011. Vol. 41. N 2. P. 169--174
Yanguas-Gil A., Elam J.W. // Chem. Vap. Depos. 2012. Vol. 18. P. 46--52
Фадеев А.В., Мяконьких А.В., Руденко К.В. // ЖТФ. 2018. Т. 88. Вып. 2. С. 243--250

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель