Вышедшие номера
Home » Журнал технической физики » Год 2018, выпуск 10 » Статья стр. 1554
<<<>>>
Абсолютно калиброванные спектрально разрешенные измерения интенсивности излучения Xe лазерной плазмы в дальнем ультрафиолетовом диапазоне
DOI: 10.21883/JTF.2018.10.46501.2477
Переводная версия: 10.1134/S1063784218100080
Буторин П.С.1, Задиранов Ю.М.2, Зуев С.Ю.3, Калмыков С.Г.2, Полковников В.Н.3, Сасин М.Э.2, Чхало Н.И.3
1Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 8 сентября 2017 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2018 г.
PDF версия
С помощью Mo/Be и Si/Mo интерференционных зеркал выполнены измерения интенсивности излучения лазерной плазмы с Xe газоструйной мишенью в полосе длин волн 11-14 nm со спектральным разрешением 3-6 Angstrem. Полученные результаты сравниваются со спектром, измеренным ранее с помощью спектрографа. Найдено, что в исследованном режиме возбуждения плазмы отношение интенсивностей на длинах волн 11.2 и 13.5 nm составило примерно 10 раз.
  1. Levinson H.J. // 2016 Int. Workshop on EUV Lithography. CXRO, LBNL, Berkeley, CA, USA. June 13-16, 2016. P. 1. https://www.euvlitho.com/2016/P1.pdf
  2. Chkhalo N.I., Salashchenko N.N. // AIP Advances. 2013. Vol. 3. P. 082130
  3. Fiedorowicz H. et al. // X-ray Optics and Microanalysis. IOP Publ., Bristol, UK. 1992. P. 515
  4. Fiedorowicz H. et al. // Appl. Phys. Lett. 1993. Vol. 62. P. 2278
  5. Kramida A. et al. // NIST Atomic Spectra Database in <http://physics.nist.gov/asd> (2017, Sept 8). NIST, Gaithersburg, MD, USA
  6. Stamm U., Gabel K. // In: EUV Sources for Lithography. V. Bakshi, ed.. SPIE Press, Bellingham, WA, USA. 2006. Chapter 19
  7. O'Sullivan G. // 2011 Int. Workshop on EUV Lithography. Maui, Hawaii. June 13-17, 2011. P. 2. http://www.euvlitho.com/2011/P2.pdf
  8. Белик В.П., Калмыков С.Г., Можаров А.М., Петренко М.В., Сасин М.Э. // Письма в ЖТФ. 2017. Т. 43. Вып. 22. С. 10
  9. Bogachev S.A. et al. // Appl. Optics. 2016. Vol. 55. N 9. P. 2126
  10. Garbaruk A.V. et al. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2017. Vol. 50. P. 025201
  11. Гарбарук А.В., Демидов Д.А., Калмыков С.Г., Сасин М.Э. // ЖТФ. 2011. Т. 81. Вып. 6. С. 20
  12. Aruev P.N. et al. // Nucl. Instr. Method. Phys. Res. A. 2009. Vol. 603. P. 58
  13. Nikolenko A. et al. // Bull. Russ. Acad. Sci.: Phys. 2014. Vol. 78. P. 1388
  14. Henke B.L. et al. // Atomic Data and Nucl. Data Tables. 1993. Vol. 54. N 2. P. 181-342. http://henke.lbl.gov/optical\_constants/

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme