Вышедшие номера
Влияние температуры на ионизационный коэффициент и напряжение зажигания таунсендовского разряда в смеси аргона с парами ртути
Бондаренко Г.Г. 1, Фишер М.Р. 2, Кристя В.И. 2
1Национальный исследовательский университет "Высшая школа экономики", Москва, Россия
2Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана, Калужский филиал, Калуга, Россия
Email: bondarenko_gg@rambler.ru, maxrf76@gmail.com, kristya@bmstu-kaluga.ru
Поступила в редакцию: 7 июня 2016 г.
Выставление онлайн: 20 января 2017 г.

В широком интервале значений приведенной напряженности электрического поля и температуры проведено моделирование кинетики основных типов заряженных и возбужденных частиц в слаботочном разряде в смеси аргон--ртуть, используемой в газоразрядных осветительных лампах. Найдены температурные зависимости вкладов различных механизмов образования и потерь ионов и метастабильных атомов в поддержание их баланса. Показано, что на этапе зажигания разряда в лампе, когда содержание ртути в смеси мало, возрастание ионизационного коэффициента в ней по сравнению с чистым аргоном практически полностью обусловлено реакцией Пеннинга, роль которой увеличивается с уменьшением приведенной напряженности электрического поля в межэлектродном промежутке. Рассчитаны зависимости напряжения зажигания разряда от межэлектродного расстояния (кривые Пашена) при различных температурах смеси и дано объяснение немонотонной зависимости его величины от температуры. DOI: 10.21883/JTF.2017.02.44125.1918
  1. Zissis G., Kitsinelis S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2009. Vol. 42. N 17. P. 173001
  2. Samukawa S. et al. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2012. Vol. 45. N 25. P. 253001
  3. Schwieger J., Baumann B., Wolff M., Manders F., Suijker J. // J. Phys. Conf. Series. 2015. Vol. 655. P. 012045
  4. Lister G.G., Lawler J.E., Lapatovich W.P., Godyak V.A. // Rev. Mod. Phys. 2004. Vol. 76. N 2. P. 541--598
  5. Райзер Ю.П. Физика газового разряда. Долгопрудный: Издат. Дом Интеллект, 2009. 736 c
  6. Кудрявцев А.А., Смирнов А.С., Цендин Л.Д. Физика тлеющего разряда. СПб.: Лань, 2010. 512 с
  7. Byszewski W.W., Li Y.M., Budinger A.B., Gregor P.D. // Plasm. Sourc. Sci. Technol. 1996. Vol. 5. N 4. P. 720--735
  8. Hadrath S., Beck M., Garner R.C., Lieder G., Ehlbeck J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2007. Vol. 40. N 1. P. 163--167
  9. Brok W.J.M., Gendre M.F., van der Mullen J.J.A.M. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2007. Vol. 40. N 1. P. 156--162
  10. Sobota A., van den Bos R.A.J.M., Kroesen G., Manders F. // J. Appl. Phys. 2013. Vol. 113. N 4. P. 043308
  11. Burgmans A.L.J., Smeets A.H.M. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1983. Vol. 16. N 5. P. 755--762
  12. Атаев А.Е. Зажигание ртутных разрядных источников излучения высокого давления. М.: МЭИ, 1995. 168 с
  13. Sawada S., Sakai Y., Tagashira H. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1989. Vol. 22. N 2. P. 282--288
  14. Миленин В.М., Тимофеев Н.А. Плазма газоразрядных источников света низкого давления. Л.: ЛГУ, 1991. 240 с
  15. Zissis G., Benetruy P., Bernat I. // Phys. Rev. A. 1992. Vol. 45. N 2. P. 1135--1148
  16. Bashlov N., Zissis G., Charrada K., Stambouli M., Milenin V., Timofeev N. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1994. Vol. 27. N 3. P. 494--503
  17. Petrov G.M., Giuliani J.L. // J. Appl. Phys. 2003. Vol. 94. N 1. P. 62--75
  18. Ben Hamida M.B., Helali H., Araoud Z., Charrada K. // Phys. Plasmas. 2011. Vol. 18. N 6. P. 063506
  19. Lay B., Moss R.S., Rauf S., Kushner M.J. // Plasma Sourc. Sci. Technol. 2003. Vol. 12. N 1. P. 8--21
  20. Мокров М.С., Райзер Ю.П. // ЖТФ. 2008. Т. 78. Вып. 4. С. 47--54
  21. Богданов Е.А., Кудрявцев А.А., Чирцов А.С. // ЖТФ. 2011. Т. 81. Вып. 1. С. 59--64
  22. Eylenceovglu E., Rafatov I., Kudryavtsev A.A. // Phys. Plasmas. 2015. Vol. 22. N 1. P. 013509
  23. Rockwood S.D. // Phys. Rev. A. 1973. Vol. 8. N 5. P. 2348--2358
  24. Phelps A.V. http://jilawww.colorado.edu/avp/
  25. Hyman H.A. // Phys. Rev. A. 1979. Vol. 20. N 3. P. 855--859
  26. Bogaerts A., Gijbels R. // Phys. Rev. A. 1995. Vol. 52. N 5. P. 3743--3751
  27. Bogaerts A., Gijbels R. // J. Appl. Phys. 1999. Vol. 86. N 8. P. 4124--4133
  28. Lymberopoulos D.P., Economou D.J. // J. Appl. Phys. 1993. Vol. 73. N 8. P. 3668--3679
  29. Sakai Y., Sawada S., Tagashira H. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1989. Vol. 22. N 2. P. 276--281
  30. Wamsley R.C., Mitsuhashi K., Lawler J.E. // Phys. Rev. E. 1993. Vol. 47. N 5. P. 3540--3546
  31. Biondi M.A. // Phys. Rev. 1953. Vol. 90. N 5. P. 730--737
  32. Крюков Н.А., Пенкин Н.П., Редько Т.П. // Опт. и спектр. 1977. Т. 42. N 1. С. 33--41
  33. Schlie L.A., Jusinski L.E., Rathge R.D., Drummond D.L., Hamil R.A. // J. Appl. Phys. 1980. Vol. 51. N 6. P. 3137--3143
  34. Moody S.E., Center R.E. // J. Appl. Phys. 1984. Vol. 55. N 7. P. 2721--2725
  35. Кристя В.И., Фишер М.Р. // Изв. РАН. Сер. физ. 2010. Т. 74. N 2. С. 298--301
  36. Кристя В.И., Фишер М.Р. // Изв. РАН. Сер. физ. 2012. Т. 76. N 5. С. 673--677
  37. Bondarenko G.G., Fisher M.R., Kristya V.I. // J. Phys. Conf. Ser. 2012. Vol. 406. P. 012031
  38. Donko Z. // Plasma Sourc. Sci. Technol. 2011. Vol. 20. N 2. P. 024001
  39. Таблицы физических величин / Под ред. И.К. Кикоина. М.: Атомиздат, 1976. 1006 с
  40. Chanin L.M., Biondi M.A. // Phys. Rev. 1957. Vol. 107. N 5. P. 1219--1221
  41. Kucukarpaci H.N., Lucas J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1981. Vol. 14. N 11. P. 2001--2014
  42. Garamoon A.A., Abdelhaleem A.S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1979. Vol. 12. N 12. P. 2181--2187
  43. Lisovskiy V.A., Yakovin S.D., Yegorenkov V.D. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2000. Vol. 33. N 21. P. 2722--2730

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.