Вышедшие номера
Оценка начального распределения плотности плазменно-металлических лайнеров
Русских А.Г., Жигалин А.С., Орешкин В.И.1,2
1Институт сильноточной электроники СО РАН, Томск, Россия
2Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия
Email: russ@ovpe2.hcei.tsc.ru.
Поступила в редакцию: 17 марта 2015 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2016 г.

Описана методика оценки начального профиля плотности оболочки лайнера по экспериментальным осциллограммам тока и напряжения с коррекцией радиуса пинча по его оптическим изображениям. Показано, что средний радиальный профиль начального распределения плотности плазменно-металлических лайнеров можно аппроксимировать двумя гауссовыми кривыми с различной дисперсией. В основной пик начального распределения плотности наибольший вклад дают ионы висмута, из которого изготовлен катод, а вклад во вторую гауссову кривую обусловлен веществом изолятора, по поверхности которого происходит зажигание вакуумной дуги.
  1. Haines M.G. // Plasm. Phys. Control. Fus. 2011. Vol. 53. P. 093 001
  2. Браницкий А.В., Александров В.В., Грабовский Е.В., Заживихин В.В., Зурин М.В., Медовщиков С.Ф., Недосеев С.Л., Олейник Ж.М., Смирнов В.П., Фролов И.Н., Федулов М.В. // Физика плазмы. 1999. Т. 25. С. 976--982
  3. Liberman M.A., De Groot J.S., Toor A., Spielman R.B. // Physics of High-Density Z-Pinch Plasmas. 1999. Springer
  4. Ryutov D.D., Derzon M.S., Matzen M.K. // Rev. Modern Phys. 2000. Vol. 72. P. 167
  5. Pereira N.R., Davis J. // J. Appl. Phys. 1988. Vol. 64. P. R1--R27
  6. Jonеs B., Deeney C., Coverdale C.A. et al. // J. Quant. Spectr. \& Radiat. Transfer. 2006. Vol. 99. N 1. P. 341--348
  7. Chaikovsky S.A., Labetsky A.Y., Oreshkin V.I. et al. // Laser and Particle Beams. 2003. Vol. 21. N 2. P. 255--264
  8. Coverdale C.A., Deeney C., Velikovich A.L. et al. // Phys. Plasm. 2007. Vol. 14. P. 056 309
  9. Калинин Ю.Г. // Физика плазмы. 2003. Т. 29. N 7. С. 618
  10. Klir D., Shishlov A.V., Kubes P. et al. // Phys. Plasm. 2012. Vol. 19. N 3. P. 032 706
  11. Smirnov V.P. // Plasm. Phys. Control. Fusion. 1991. Vol. 33. N 13. P. 1697--1714
  12. Смирнов В.П., Захаров С.В., Грабовский Е.В. // Письма в ЖЭТФ. 2005. Т. 81. В. 9. С. 556--562
  13. Mazarakis M.G., Cuneo M.E., Stygar W.A. et al. // Phys. Rev. E. 2009. Vol. 79. P. 016 412
  14. Coverdal\`e C.A., Jones B., Ampleford D.J. et al. // High Energy Density Phys. 2010. Vol. 6. P. 143--152
  15. Mitrofanov K.N., Grabovski E.V., Oleinik G.M. et al. // Plasm. Phys. Rep. 2012. Vol. 38. N 10. P. 797--819
  16. Knapp P.F., Greenly J.B., Gourdain P.A. et al. // Phys. Plasm. 2010. Vol. 17. P. 012 704
  17. Harvey-Thompson A.J., Lebedev S.V., Burdiak G. et al. // Phys. Rev. Lett. 2011. PRL 106. P. 205 002
  18. Kroupp E., Osin D., Starobinets A. et al. // Phys. Rev. Lett. 2007. PRL 98. P. 115 001
  19. Baksht R.B., Fedunin A.V., Labetsky A.Yu. et al. // Plasm. Phys. Control. Fusion. 2001. Vol. 43. N 7. P. 849--859
  20. Coverdale C.A., Deeney C., Velikovich A.L. et al. // Phys. Plasm. 2007. Vol. 14. P. 022 706
  21. Лабецкий А.Ю., Кокшенев В.А., Курмаев Н.Е. и др. // Физика плазмы. 2008. T. 34. N 2. C. 1--12
  22. Shishlov A.V., Baksht R.B., Chaikovsky S.A. et al. // IEEE Trans. Plasm. Sci. 2007. Vol. 35. N 3. P. 592--600
  23. Shishlov A.V., Baksht R.B., Chaikovsky S.A. et al. // Plasm. Dev. Operations. 2005. Vol. 13. N 2. P. 81--85
  24. Labetsky A.Y., Baksht R.B., Oreshkin V.I. et al. // IEEE Trans. Plasm. Sci. 2002. Vol. 30. N 2. P. 524--531
  25. Rousskikh A.G., Baksht R.B., Labetsky A.Yu. et al. // Plasm. Phys. Reports. 2001. Vol. 27. N 7. P. 549--556
  26. Shishlov A.V., Baksht R.B., Fedunin A.V. et al. // Phys. Plasm. 2000. Vol. 7. N 4. P. 1252
  27. Rousskikh A.G., Baksht R.B., Shishlov A.V. et al. // Plasm. Phys. Reports. 1999. Vol. 25. N 7. P. 527--539
  28. Rousskikh A.G., Zhigalin A.S., Oreshkin V.I. et al. // Phys. Plasm. 2014. Vol. 21. P. 052 701
  29. Русских А.Г., Бакшт Р.Б., Жигалин А.С. и др. // Физика плазмы. 2012. Том 38. N 8. С. 651--664
  30. Русских А.Г., Шишлов А.В., Жигалин А.С., Орешкин В.И., Чайковский С.А., Бакшт Р.Б. // ЖТФ. 2010. Т. 80. Вып. 11. С. 73--81
  31. Baksht R.B., Rоusskikh A.G., Zhigalin A.S., Oreshkin V.I. // IEEE Trans. Plasm. Sci. 2013. Vol. 41. N 1
  32. Русских А.Г., Жигалин А.С., Орешкин В.И., Чайковский С.А., Бакшт Р.Б., Земсков Ю.А. // Изв. вуз. Физика. 2014. Т. 57. N 3--3. C. 234--237
  33. Rousskikh A.G., Zhigalin A.S., Oreshkin V.I., Chaikovsky S.A., Labetskaya N.A., Baksht R.B. // Phys. Plasm. 2011. Vol. 18. N 9. P. 092 707
  34. Velikovich A.L., Cochran F.L., Davis J. // Phys. Rev. Lett. 1996. Vol. 77. P. 853
  35. Rousskikh A.G., Zhigalin A.S., Oreshkin V.I., Labetskaya N.A., Chaikovsky S.A., Batrakov A.V., Yushkov G.Yu., Baksht R.B. // Phys. Plasm. 2014. Vol. 21. P. 052 701
  36. Жигалин А.С., Русских А.Г., Бакшт Р.Б., Чайковский С.А., Лабецкая Н.А., Орешкин В.И. // Письма в ЖТФ. 2015. Т. 41. Вып. 11. С. 86--93
  37. Леонтович М.А., Осовец С.М. // Атомная энергия. 1956. Т. 3. С. 81
  38. Oreshkin V.I. // Phys. Plasm. 2013. Vol. 20. N 11. P. 112 505
  39. Apruzese J.P., Whitney K.G., Davis J., Kepple P.C. // J. Quant. Spectr. Radiat. Transfer. 1997. Vol. 57. N 1. P. 41
  40. Русских А.Г., Орешкин В.И., Лабецкий А.Ю., Чайковский С.А., Шишлов А.В. // ЖТФ. 2007. T. 77. Вып. 5. C. 35--40.
  41. Климов А.И. // Экспериментальные методы в сильноточной электронике. 2009. Томск: Изд-во Томского политех. ун-та. 229 с
  42. Описание лабораторных работ. Ч. 3. Электричество и магнетизм. Новосибирск: Изд-во НГУ, 1988
  43. Murphy D.P., Allen R.J., Weber B.V., Phipps D.G., Comisso R., Apruzese P., Mosher D. // Rev. Sci. Instrum. 2008. Vol. 79. P. 10E 306

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.