Вышедшие номера
Исследование влияния зарядки халькогенидных стеклообразных полупроводников в коронном разряде на образование наложенных голографических дифракционных решеток
Настас А.М.1, Иову М.С.1, Тридух Г.М.1, Присакар А.М.1
1Институт прикладной физики АН Молдовы, Кишинев, Молдова
Email: nastas_a@usm.md
Поступила в редакцию: 6 мая 2014 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2015 г.

Исследована оптическая запись двух наложенных голографических решеток, которые были записаны в поле коронного разряда в структуре Ni-As2S3. Показано, что использование коронного разряда при записи в структуре Ni-As2S3 позволяет увеличить голографическую чувствительность этой структуры и дифракционную эффективность зарегистрированных решеток в несколько раз. Установлено, что при записи двух наложенных решеток поверхностный рельеф, полученный в результате химического травления голографических решеток, при записи которых использовался коронный разряд, является более однородным и отличается большей глубиной модуляции толщины поверхностного рельефа.