Вышедшие номера
Состав примесей и очистка цилиндрической поверхности газофазного поликристаллического вольфрама
Браварец А.В.1, Зыков Б.М.1, Зыкова В.Н.1, Лебедев В.Н.1, Удовиченко Ю.К.1
1Сухумский физико-технический институт АН Абхазии, Сухуми, Абхазия
Поступила в редакцию: 18 сентября 2001 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2002 г.

Методами вторично-ионной масс-спектрометрии (ВИМС) и электронной оже-спектроскопии (ЭOС) определет состав приповерхностных и поверхностных примесей цилиндрической поверхности газофазного поликристаллического покрытия W на сплаве Nb + 1% Zr, применяемого в качестве материала коллектора термоэмиссионных преобразователей (ТЭП) тепловой энергии в электрическую в космических ядерных энергетических установках. Проведено сравнение с составом примесей плоскопараллельного достаточно совершенного монокристалла W (110) как эталона. На всех стадиях травления поверхности пучками ионов He+ и Ar+ покрытие загрязнено сильнее эталона. При первом же прогреве в вакууме до 1625 K удаляются все примеси, кроме углерода, кислорода и ниобия, не удаляемых прогревом вплоть до 2075 K. Показано, что ниобий диффунидирует к поверхности сквозь W покрытие толщиной 30 mum. Отмечается сильное распыление материала при температурах выше 1925 K. После проведения 50 циклов специального окисления содержание углерода в покрытии значительно уменьшено, но последующие 25 циклов к дальнейшему уменьшению уже не приводят. Исходя из невозможности удаления с поверхности при 1925-2075 K кислорода сделан вывод о наличии на ней высокотемпературного субоксида Nb2W2O. Для улучшения адсорбционных свойств по отношению к O-Cs пленке даны рекомендации по повышению чистоты W покрытия при его получении.