Термостимулированное течение легкоплавких стекол при планаризации рельефа поверхности микроэлектронных структур
Жвавый С.П.1, Ивлев Г.Д.1, Пилипенко В.А.1, Пономарь В.Н.1
1Институт электроники НАН Белоруссии, Минск, Белоруссия
Поступила в редакцию: 24 ноября 1997 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1998 г.
На основе модели, предполагающей ньютоновское вязкое течение под действием сил поверхностного натяжения, решена задача течения фосфоросиликатного и борофосфоросиликатного стекла в термостимулированном процессе планаризации рельефа микроэлектронных структур. Получены выражения для угла оплавления в зависимости от температурно-временных режимов термообработки и физических параметров стекол.
- Becker F.S., Pawlik D., Schafer H., Staudigl G. // J. Vac. Sci. Technol. B. 1986. Vol. 4. N 3. P. 732--744
- Mercier J.S. // Solid State Technol. 1987. Vol. 30. N 7. P. 85--90.
- Васильев В.Ю., Духанова Т.Г. // Электронная техника. Сер. 3. Микроэлектроника. 1991. N 4. С. 38--41
- White L.K., Miszkowski N.A., Kurylo W.A., Shaw J.M. // J. Electrochem. Soc. 1992. Vol. 139. N 3. P. 822--826
- Thallikar G., Liao H., Cale T.S. // J. Vac. Sci. Technol. B. 1995. V. 13. N 4. P. 1875--1878
- Де Жен П.Ж. // УФН. 1987. Т. 151. N 4. С 619--681
- Мазурин О.В., Стрельцина М.В., Швайко-Швайковская Т.П. Свойства стекол и стеклообразующих расплавов. Справочник. Т. 1. Л.: Наука, 1973. 444 с
- Борисенко В.Е., Корнилов С.Н., Лабунов В.А., Кучеренко Ю.В. // Зарубежная электронная техника. 1985. Т. 6. С. 45--65
- Немилов С.В. // Физ. и хим. стекла. 1978. Т. 4. N 2. С. 129--148.
- Немилов С.В., Гуткина Н.Г. // Физ. и хим. стекла. 1980. Т. 6. N 5. С. 535--542
- Мюллер Р.Л. // ЖПХ. Т. 28. N 10. С. 1077--1087
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук