Вышедшие номера
Home » Журнал технической физики » Год 1998, выпуск 2 » Статья стр. 47
<<<>>>
Исследование ионной бомбардировки пленок аморфного кремния в процессе плазмохимического осаждения в высокочастотном разряде
Абрамов А.С.1, Виноградов А.Я.1, Косарев А.И.1, Смирнов А.С.2, Орлов К.Е.2, Шутов М.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный технический университет, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 9 октября 1996 г.
Выставление онлайн: 20 января 1998 г.
Исследованы характеристики ионного и электронного потоков на поверхность растущей пленки кремния в различных режимах высокочастотного разряда в силане при частотах 13.56 и 58 MHz в установке для плазмохимического осаждения пленок. Измерены энергетические спектры ионов и электронов, бомбардирующих растущую пленку. Исследованы электронные свойства пленок, выращенных при различной ионной бомбардировке. Обсуждается корреляция этих свойств с параметрами ионов в плазме высокочастотного разряда в процессе роста пленок.
  1. Khigths J.C., Lukovcky G., Nemanich R.G. // J. Non-Cryst. Solids. 1979. Vol. 32. P. 393--398
  2. Roca i Cabarrocas P., Morrin P., Chu V. et al. // J. Appl. Phys., 1991. Vol. 69. N 5. P. 2942--2945
  3. Nakayama Y., Hitsuishi K., Zhang M. et al. // J. Non-Cryst. Sol. 1991. Vol. 137\&138. P. 669--674
  4. Roca i Cabarrocas P. Thesis. Paris, 1988
  5. Curtins H., Wyrsch N., Favre M. et al. // Pl. Chem. and Pl. Processing. 1987. Vol. 7. P. 267--270
  6. Oda S., Noda J., Matsumura M. // Jap. J. Appl. Phys. 1990. Vol. 29. P. 1889--1892
  7. Finger F., Kroll U., Viret V. et al. // J. Appl. Phys. 1992. Vol. 71. N 11. P. 5665--5668
  8. Frolov K.S., Kosarev A.I., Smirnov A.S. et al. // Proc. XXI ICPIG. 1993. Vol. 1. P. 19--24
  9. Bohm C., Perrin J. // Rev. Sci. Instr. 1993. Vol. 64. N 1. P. 31--38
  10. Смирнов А.С., Фролов К.С., Уставщиков А.Ю. // ЖТФ. 1995. Т. 65. Вып. 8. С. 38--50
  11. Дулькин А.Е., Мошкалев С.А., Смирнов А.С. и др. // ЖТФ. 1993. Т. 38. Вып. 7. С. 564--569
  12. Lieberman M.A., Lichtenberg A.J. Principles of Plasma Discharges and Materials Processing. New York: John Wiley, 1994
  13. Raizer Yu.P., Shneider M.N. // Plasma Sources Sci. Technol. 1992. Vol. 1. P. 102--105.
  14. Chapman B. Glow discharge processes. New York: John Wiley, 1980.
  15. Trofimov G.S., Kosarev A.I., Le Comber P.G. et al. // J. Non-Cryst. Sol. 1991. Vol. 137\&138. P. 21--26
  16. Vanecek M., Kocka J., Stuchlik J. et al. // Solar Energy Mater. 1983. Vol. 8. P. 411--415
  17. Smirnov A.S., Tsendin L.D. // IEEE Trans. Plasma Sci. 1991. Vol. 19. N 2. P. 130--140
  18. Kaganovich I.D., Tsendin L.D. // IEEE Trans. Plasma Sci. 1992. Vol. 20. N 2. P. 66--75, 86--92

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme