Методом вторично-ионной масс-спектрометрии определены профили распределения элементов по толщине аморфных и кристаллических областей оксида тантала, подвергнутого в контакте с электролитом длительному электротепловому нагружению, С использованием изотопа О¹⁸ показано, что источником кислорода в процессе электростимулированного роста кристаллов в системе металл-аморфный оксид-электролит является электролит. На основании анализа распределения примесей установлено, что на образование кристаллической фазы вещество исходного аморфного оксида не расходуется. Указаны основные факторы, определяющие стабильность структуры и свойств аморфных диэлектрических материалов и технических устройств на их основе.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.