Вышедшие номера
Строгая модель многоволновой экспозиции в оптической литографии
Рудницкий А.С., Сердюк В.М.1
1Институт прикладных физических проблем им. А.Н. Севченко Белорусского государственного университета, Минск, Республика Беларусь
Email: serdyukvm@bsu.by
Поступила в редакцию: 26 июля 2013 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2014 г.

Рассмотрена теоретическая модель процесса бесконтактной оптической литографии с одновременным участием нескольких различных волн засветки, одна из которых падает на фотошаблон нормально, а остальные --- под наклоном симметрично с обеих сторон. Модель базируется на строгом решении задачи дифракции плоской световой волны для упрощенной двумерной дифракционной структуры, состоящей из идеально проводящего экрана конечной толщины с одиночной щелью (шаблон) и полубесконечным поглощающим диэлектриком, расположенным за экраном (фоторезист). Исследовано суммарное дифракционное поле, возникающее в этой среде в результате наложения разных дифракционных полей, порождаемых разнонаправленными волнами, падающими на экран со щелью. Для оценки качества воспроизведения оптического изображения щели использованы несколько интегральных параметров, введенных авторами ранее. Рассмотрен актуальный случай нанолитографии, когда ширина щели, толщина экрана и расстояние до среды оказываются величинами порядка длины волны засветки. Установлено, что в этом случае оптимальное значение качества изображения щели достигнуто для двухволнового и трехволнового режимов экспозиции при одинаковых начальных фазах падающих волн и при углах падения боковых волн от 10 до 20o.
  1. Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии. М.: Мир, 1985. C. 249--348
  2. Levinson H.J. Principles of Lithography. Washington: SPIE Press, 2010
  3. Mack C.A. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication. London: Wiley, 2007
  4. Lin B.J. Optical Lithography: Here is Why. Bellingham: SPIE Press, 2010
  5. Manual mask aligner Web: http://www.suss.com/fileadmin/ user\_upload/brochures/MA150e\_Brochure.pdf
  6. Manual mask aligner Web: http://www.suss.com/fileadmin/ user\_upload/brochures/BR\_MJB4.pdf
  7. Rudnitsky A.S., Serdyuk V.M. // Progr. Electromagn. Res. 2008. V. PIER 86. P. 277--290
  8. Рудницкий А.С., Сердюк В.М. // ЖТФ. 2012. Т. 82. Вып. 10. С. 65--71

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.