Компьютерное изучение устойчивости пленок алюминия, нагреваемых на листе графена
Поступила в редакцию: 14 мая 2013 г.
Выставление онлайн: 20 марта 2014 г.
Методом молекулярной динамики исследовано поведение односторонней и двухсторонней моноатомных пленок алюминия на графене при нагревании от 300 до 3300 K. Атомы одностороннего покрытия сохраняются на графене до 3300 K, тогда как атомы двухстороннего покрытия покидают графен уже при 1800 K, что при дальнейшем повышении температуры приводит к увеличению горизонтальной и вертикальной составляющих коэффициента самодиффузии. Наиболее значительными в металлических пленках оказываются напряжения, создаваемые силами вертикального направления, которые в основном рассасываются к температуре 2300 K. Напряжения в графене, самые большие из которых сосредоточены в зоне формирования металлической пленки, значительно уменьшаются с ростом температуры.
- Daniel C., Mucklich F. // Appl. Surf. Sci. 2005. Vol. 242. P. 140--146
- Zakharchenko K.V., Fasolino A., Los J.H., Katsnelson M.I. // J. Phys.: Condens. Matter. 2011. Vol. 23. N 20. P. 202 202
- Geim A.K., Novoselov K.S. // Nature Mater. 2007. Vol. 6. N 3. P. 183--191
- Balandin A.A., Ghosh S., Bao W., Calizo I., Teweldebrhan D., Miao F., Lau C.N. // Nano Lett. 2008. Vol. 8. N 3. P. 902--907
- Seol J.H., Jo I., Moore A.L., Lindsay L., Aitken Z.H., Pettes M.T., Li X., Yao Z., Huang R., Broido D., Mingo N., Ruoff R.S., Shi L. // Sciense. 2010. Vol. 328. N 5975. P. 213--216
- Chanchani R., Hall P.M. // IEEE Compon., Hybrids, Manufact. Technol. 1988. Vol. 11. N 3. P. 427--432
- Lee S.H., Park M., Yoh J.J., Song H., Jang E.Y., Kim Y.H., Kang S., Yoo Y.S. // Appl. Phys. Lett. 2012. Vol. 101. N 24. P. 241 909
- Wang L., Travis J.J., Cavanagh A.S., Liu X., Koenig S.P., Huang P.Y., George S.M., Bunch J.S. // Nano Lett. 2012. Vol. 12. N 7. P. 3706--3710
- Nam Y., Lindvall N., Sun J., Park Y.W., Yurgens A. // Carbon. 2012. Vol. 50. N 5. P. 1987--1992
- Hanaoka Y., Hinode K., Takeda K., Kodama D. // Mater. Trans. 2002. Vol. 43. N 7. P. 1621--1623
- Cheong W.C.D., Zhang L.C. // Nanotechnology 2000. Vol. 11. P. 173--178
- Kim O. // Mol. Simul. 2005. Vol. 31. P. 115--121
- Morse P.M. // Phys. Rev. 1929. Vol. 34. N 1. P. 57--64
- Abell G.C. // Phys. Rev. B. 1985. Vol. 31. N 10. P. 6184--6196
- Tersoff J. // Phys. Rev. B. 1988. Vol. 37. N 12. P. 6991--6999
- Tersoff J. // Phys. Rev. Lett. 1988. Vol. 61. N 25. P. 2879--2882
- Tersoff J. // Phys. Rev. B. 1989. Vol. 39. N 8. P. 5566--5568
- Stuart S.J., Tutein A.V., Harrison J.A. // J. Chem. Phys. 2000. Vol. 112. N 14. P. 6472--6486
- Rafii-Tabar H. // Phys. Rep.: 2000. Vol. 325. N 6. P. 239--310
- Fang T.-H., Wu J.-H. // Comp. Mater. Sci. 2008. Vol. 43. P. 785--790
- Lee W., Jang S., Kim M.J., Myoung J.-M. // Nanotechnology 2008. Vol. 19. N 28. P. 285 701
- Berendsen H.J.C., Postma J.P.M., van Gunsteren W.F., DiNola A., Haak J.R. // J. Chem. Phys. 1984. Vol. 81. N 8. P. 3684--3690
- Норман Г.Э., Стегайлов В.В. // ЖЭТФ. 2001. Т. 119. N 5. С. 1011--1020
- Kuksin A.Y., Morozov I.V., Norman G.E., Stegailov V.V., Valuev I.A. // Mol. Simul. 2005. Vol. 31. N 14--15. P. 1005--1017
- Cole M.W., Cresp V.H., Dresselhaus M.S. // J. Phys.: Condens. Mater. 2010. Vol. 22. P. 33 420
- Sondheimer E.H. // Adv. Phys. 2001. Vol. 50. N 6. P. 499--537
- Максимов Е.Г., Саврасов Д.Ю., Саврасов С.Ю. // УФН. 1997. Т. 167. N 4. С. 353--376
- Reicha F.M., El Hiti M.A., Barna P.B. // J. Mater. Sci. 1991. Vol. 26. N 8. P. 2007--2014
- Давыдов С.Ю. // ФТТ. 2012. Т. 54. Вып. 4. С. 821--827
- White G.K., Collocott S.J. // J. Phys. Chem. Ref. Data. 1984. Vol. 13. N 4. P. 1251--1257
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.