Обсужден новый подход к анализу рентгенодифракционных спектров многослойных структур. Особенностью подхода является использование информации о временах роста отдельных слоев. При этом по сравнению с обычной процедурой анализа уменьшается число варьируемых параметров. Повышаются стабильность и скорость сходимости процедуры подгонки вычисленного спектра к экспериментальному даже в случае большого числа слоев и малоинформативного эксперимента. Подход реализован за счет наложения связей на параметры модели при расчете спектра в программе Bruker DIFFRAC.Leptos. На примере многослойной SiGe/Si-структуры проведено сравнение нового подхода с обычной процедурой. Корректность нового подхода подтверждена сравнением с данными вторично-ионной масс-спектрометрии и просвечивающей электронной микроскопии. Обсуждены преимущества и ограничения предлагаемого метода.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.