Проведены исследования условий пробоя при электродного слоя пространственного заряда в плазме импульсной вакуумной дуги с током до 1 кА при подаче на электрод постоянного отрицательного напряжения 0-200 В или импульсного напряжения с амплитудой до 4 кВ и длительностью 150 мкс. Получены расчетные и экспериментальные зависимости времени задержки пробоя слоя от величины приложенного напряжения и состояния поверхности электродов. Обсуждаются два механизма пробоя приэлектродного ионного слоя и определены критические параметры перехода одного механизма в другой.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.