Описываются эксперименты по заполнению открытой магнитной ловушки с однородным магнитным полем плазмой, инжектируемой из независимого СВЧ источника. В источнике плазма с концентрацией от 10⁹ до 10¹² см^-3 и температурой 3-8 эВ создается в режиме ЭЦР на частоте 2400 МГц (подводимая мощность до 150 Вт) при давлении рабочего газа (Ar, He, Ne) 10^-5-10^-2 Тор. Расстояние между источником плазмы и ловушкой можно менять в пределах 30-80 см практически без ухудшения эффективности заполнения ловушки плазмой. Подробно изучены характеристики плазмы в ловушке. Показано, что особенно при низких давлениях (p<10^-3 Тор) однородность заполнения весьма высока. Кроме того, обнаружено существование группы быстрых электронов, рождаемой в СВЧ источнике плазмы, которая вносит определенный вклад в заполнение ловушки плазмой при высоких давлениях (p>10^-3 Тор) путем ионизации нейтрального газа в разрядном баллоне.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.