Проведен анализ характеристик источника электронов на основе эмиссии из плазмы, ограниченной пристеночным ионным слоем, с учетом процессов в эмиссионном канале. Предложены физическая модель и методика, позволяющая рассчитать ВАХ, эмиссионную характеристику и характеристику управления источника в зависимости от параметров плазмы, напряженности поля в ускоряющем промежутке и геометрии эмиссионного канала. Показано, что протекание эмиссионного тока через плазму в канале не приводит к существенному изменению осевого распределения концентрации. Результаты расчетов удовлетворительно согласуются с экспериментальными данными.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.