"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Свойства емкостного поперечного ВЧ разряда повышенного давления кислорода, используемого при получении тонких пленок сложного оксида
Мухортов В.М., Толмачев Г.Н., Мащенко А.И., Клевцов А.Н.
Выставление онлайн: 19 апреля 1992 г.

Рассмотрены особенности стационарного ВЧ разряда, обеспечивающего синтез и кристаллизацию тонких пленок сложного оксида в процессе их непосредственного осаждения, при изменении внешних энергетических параметров. Методом оптической спектроскопии показано, что ВЧ распыление сложных оксидов Bi-Sr-Ca-Cu-O и Y-Ba-Cu-O происходит на атомарном уровне без образования на поверхности измененного по составу слоя. Установлено влияние положения подложки на элементарные процессы в газовом разряде, приводящие к возбужденному состоянию распыленных атомов.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.