Рассматривается влияние внешнего продольного магнитного поля на процесс ускорения тяжелых заряженных частиц в плазменных и вакуумных диодах. Объяснена зависимость процесса захвата и ускорения ионов от величины продольного магнитного поля. Исследовано влияние собственного магнитного поля пучка на процесс ускорения. Показано, что влияние собственного магнитного поля пучка подобно тому воздействию, которое оказывает неоднородность плотности плазмы.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.