Моделирование роста пленок гидрированного аморфного кремния из ВЧ разрядной плазмы
Горбачев Ю.Е.1, Затевахин М.А.1, Каганович И.Д.1
1Институт межфазных взаимодействий, Санкт-Петербург, Россия Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия Санкт-Петербургский государственный технический университет, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 8 июня 1995 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1996 г.
Построена модель, описывающая процесс роста пленки аморфного кремния из ВЧ разрядной силановой плазмы. На основании последних экспериментальных данных получены оценки для ряда констант реакций электронно-стимулированной диссоциации. С помощью численного решения системы уравнений химической кинетики проанализированы роль различных компонентов и влияние основных параметров (давления, межэлектродного расстояния, концентрации электронов) на процесс роста пленки. Для потоков силила и силилила на поверхность получены аналитические зависимости от параметров системы, характеризующие соответственно скорость роста пленки и ее качество. Аналитические выражения хорошо аппроксимируют результаты численных расчетов и позволяют проводить параметрические исследования.
- Kounavis P., Mataras D., Spiliopoulos N. et al. J. Appl. Phys. 1994. Vol. 75. N 3. P. 1599--1606
- Kawase M., Masuda T., Nagashima M. et al. Jap. J. Appl. Phys. 1994. Vol. 33. N 7A. P. 3830--3836
- Kushner M.J. J. Appl. Phys. 1988. Vol. 63. N 8. P. 2532--2551
- Perrin J., Broekhuizen T. Appl. Phys. Lett. 1987. Vol. 50. N 8. P. 433-435
- Doyle J.R., Doughty D.A., Gallagher A. J. Appl. Phys. 1990. Vol. 68. N 9. P. 4375--4384
- Doughty D.A., Gallagher A. Phys. Rev. A. 1990. Vol. 42. N 10. P. 6166--6170
- Bohm Ch., Perrin J., Roca i Cabarrocas P. J. Appl. Phys. 1993. Vol. 73. N 5. P. 2160--2162
- Itabashi N. et al. Jap. J. Appl. Phys. 1990. Vol. 29. N 3. P. L505--507
- Itabashi N. et al. Jap. J. Appl. Phys. 1990. Vol. 29. N 3. P. 585--590
- Tanaka K. Optoelectr. Devices and Techn. 1989. Vol. 4. P. 133-153
- Doughty D.A., Gallagher A. J. Appl. Phys. 1990. Vol. 67. N 1. P. 139--145
- Doyle J.R., Doughty D.A., Gallagher A. J. Appl. Phys. 1992. Vol. 71. N 10. P. 4771--4780
- Мездрогина М.М., Бардамид А.Ф., Голикова О.А. и др. Неорган. материалы. 1990. Т. 26. N 9. С. 1809--1813
- Shiratani M., Matsuo S., Watanabe Y. Jap. J. Appl. Phys. 1991. Vol. 30. N 8. P. 1887--1892
- Boufendi L., Bouchoule A. ESCAMPIG-92. Abstr. of Invited Lectures and Contrib. Papers. Europ. Phys. Soc., 1992. P. 14--17
- Gorbachev Yu.E., Zatevakhin M.A., Kaganovich I.D. ESCAMPIG-92. Abstr. of Invited Lectures and Contrib. Papers. Europ. Phys. Soc., 1992. P. 425--426
- Sato N., Shiratani M., Watanabe Yu. Jap. J. Appl. Phys. 1994. Vol. 33. N 7B. P. 4266--4270
- Perrin J. J. Phys. D. 1993. Vol. 26. P. 1662--1679
- Perrin J., Lloret A., De Bosny J., Schmitt J.P.M. Intern. J. Mass Spec. Ion Proc. 1984. Vol. 57. P. 249--281
- Богданов А.В., Шапиро Д.В. Математ. моделирование. 1992. Т. 4. N 4. С. 3--10
- Gorbachev Yu.E., Shapiro D.A. Preprint of Phys. Tech. Institute. N 1609. St. Petersburg, 1993. 26 p
- Semenoff N.N. Acta Phys. URSS. 1943. Vol. 18. P. 93
- Stekolnikov A.F., Feshchenko D.V., Ivanov D.M., Pereversev A.E. ESCAMPIG-92. Abstr. of Invited Lectures and Contrib. Papers. Europ. Phys. Soc., 1992. P. 453--454
- Гиршфельдер Дж., Кертис Ч., Берд Р. Молекулярная теория газов и жидкостей. М.: ИЛ, 1961. 930 с
- Лойцянский Л.Г. Механика жидкости и газа. М.: Наука, 1973. 848 с
- Jasinski J.M., Chu J.O. J. Chem. Phys. 1988. Vol. 88. N 3. P. 1678--1687
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук