Образование фотоэмиссионных центров в оптическом стекле при облучении быстрыми электронами
Бирюков Д.Ю.1, Зацепин А.Ф.1, Кортов В.С.1
1Уральский государственный технический университет, Екатеринбург, Россия
Поступила в редакцию: 13 июня 1995 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1996 г.
Методом фотостимулированной экзоэлектронной эмиссии исследовано воздействие быстрых электронов (10 МэВ) на силикатное стекло К8. Продемонстрирована эффективность метода при регистрации собственных радиационных нарушений, соответствующих спектральной области интенсивного поглощения примесей. Установлено образование в приповерхностных слоях стекла набора фотоэмиссионных радиационных центров, связанных с континуальным (4.95 и 5.4 эВ) и с дискретным (4.75, 5.2 и 5.75 эВ) разупорядочением структуры матрицы. Выявлены три стадии процесса формирования эмиссионно-активных центров, что находит отражение и в дозовой зависимости порога оптического пробоя поверхности стекла.
- Клява Я.Г. ЭПР спектроскопия неупорядоченных твердых тел. Рига: Зинатне, 1988. 320 с
- Образцова Е.В., Луценко В.П., Кузьмин И.И. Физ. хим. стекла. 1980. Т. 6. N 3. С. 344--345
- Образцова Е.В., Луценко В.П., Кузьмин И.И. Вопросы атомной науки и техники. Сер. физика радиационных повреждений и радиационное материаловедение. N 3/22. Харьков, 1982. С. 44--45
- Арбузов В.И., Зацепин А.Ф., Кортов В.С. и др. Физ. хим. стекла. 1994. Т. 20. N 6. С. 689--700
- Арбузов В.И., Николаев Ю.П., Толстой М.Н. Физ. хим. стекла. 1989. Т. 15. N 3. С. 433--441
- Арбузов В.И., Толстой М.Н. Физ. хим. стекла. 1988. Т. 14. N 1. С. 3--18
- Глебов Л.Б., Докучаев В.Г., Петров М.А. и др. Физ. хим. стекла. 1990. Т. 16. N 1. С. 39--47
- Глебов Л.Б., Докучаев В.Г., Петров М.А. и др. Физ. хим. стекла. 1988. Т. 14. N 3. С. 355--361
- Кязмбре Х.Ф., Белкинд А.И., Бичевин В.В. и др. РиЭ. 1969. Т. 14. N 12. С. 2216--2221
- Зацепин А.Ф., Кортов В.С., Щапова Ю.В. РиЭ. 1992. Т. 37. N 2. С. 2216--2221
- Arbuzov V.I., Zatzepin A.F., Kortov V.S. et. al. J. Non-Crystalline Solids. 1991. Vol. 134. P. 208--217
- Глебов Л.Б., Докучаев В.Г., Петров М.А. и др. Физ. хим. стекла. 1990. Т. 16. N 4. С. 619--624
- Sigel G.H. J. Non-Crystalline Solids. 1973/74. Vol. 13. N 2. P. 372--398
- Силинь А.Р., Трухин А.Н. Точечные дефекты и элементарные возбуждения в кристаллическом и стеклообразном SiO2. Рига: Зинатне, 1985. 244 с
- Бреховских С.М., Тюльнин В.Л. Радиационные центры в неорганических стеклах. Москва: Энергоатомиздат, 1988. 200 с
- Зацепин А.Ф., Ушкова В.И., Калентьев В.А. Поверхность. 1990. N 6. С. 100--105
- Kortov V.S., Zatzepin A.F., Ushkova V.I. Physics and Chemistry of Minerals. 1985. Vol. 12. P. 114--121
- Зацепин А.Ф., Мазуренко В.Г., Кортов В.С. и др. ФТТ. 1988. Т. 30. Вып. 11. С. 3472--3474
- Толпыго Е.И., Толпыго К.Б., Шейнкман М.К. Изв. АН СССР. Сер. физ. 1966. Т. 30. N 12. С. 1901--1905
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук