Разработан и экспериментально исследован новый метод модифицирования поверхности твердого тела, позволяющий эффективно и прецизионно модифицировать структуру и элементный состав поверхности. В основу метода положено воздействие плазмы импульсного высоковольтного вакуумного разряда, ионного пучка из плазмы и электронного пучка на твердотельную мишень. Эмиссионные и плазменные параметры реализуются при создании импульсного электрического поля в диодной системе, на которую подается импульсное напряжение амплитудой ~10³-10⁵ V и длительностью ~10^-9-10^-5 s.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.