Метод модифицирования структуры и элементного состава поверхности твердого тела в процессе высоковольтного вакуумного разряда
Лупехин С.М.1, Ибрагимов А.А.1
1Санкт-Петербургский государственный университет телекоммуникаций им. проф. М.А. Бонч-Бруевича, Санкт-Петербург, Россия
Email: sml50@mail.ru
Поступила в редакцию: 18 сентября 2012 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2013 г.
Разработан и экспериментально исследован новый метод модифицирования поверхности твердого тела, позволяющий эффективно и прецизионно модифицировать структуру и элементный состав поверхности. В основу метода положено воздействие плазмы импульсного высоковольтного вакуумного разряда, ионного пучка из плазмы и электронного пучка на твердотельную мишень. Эмиссионные и плазменные параметры реализуются при создании импульсного электрического поля в диодной системе, на которую подается импульсное напряжение амплитудой ~103-105 V и длительностью ~10-9-10-5 s.
- Никитский В.И., Журавлев Б.И. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2006. N 4. С. 55--58
- Физика и технология источников ионов / Под ред. Я. Брауна: Пер. с англ. М.: Мир, 1998. 420 с
- Аксёнов И.И., Падалка В.Г., Хороших В.М. Формирование потоков металлической плазмы: Обзор. М.: ЦНИИатоминформ, 1984. 83 с
- Месяц Г.А. Импульсная энергетика и электроника. М.: Наука, 2004. 704 с
- Литвинов Е.А., Месяц Г.А., Проскуровский Д.И. // УФН. 1983. Т. 139. Вып. 2. С. 265--302
- Месяц Г.А. Эктоны. Ч. 1. Екатеринбург: УИФ Наука, 1993. 184 с
- Адаменко С.В. и др. // Письма в ЖТФ. 2001. Т. 27. Вып. 16. С. 16--20
- Бронштейн И.М., Фрайман Б.С. Вторичная электронная эмиссия. М.: Наука, 1969. 408 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
