Вышедшие номера
Расширение рабочего диапазона форвакуумных плазменных источников электронов в область более высоких давлений
Бурдовицин В.А.1, Гореев А.К.1, Климов А.С.1, Зенин А.А.1, Окс Е.М.1
1Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия
Email: burdov@fet.tusur.ru
Поступила в редакцию: 11 октября 2011 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2012 г.

Показано, что в форвакуумном плазменном источнике электронов повышение рабочего давления ограничено доминированием в электронном пучке компонента тока, возникающего в ускоряющем промежутке за счет высоковольтного тлеющего разряда (ВТР). Для электронных источников такого типа расширение рабочего диапазона давления в область более высоких значений возможно при создании специальных условий, ограничивающих ток ВТР в ускоряющем промежутке.
  1. Hershcovitch A. // J. Appl. Phys. 1995. Vol. 78. N 9. 1995. Р. 5283--5288
  2. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат. 1977. 144 с
  3. Окс Е.М. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. М.: НТЛ, 2005. 216 с
  4. Burdovitsin V.A., Oks E.M. // Laser Part. Beams. 2008. Vol. 26. Iss. 04. P. 619--635
  5. Бурдовицин В.А., Климов А.С., Окс Е.М. // Письма в ЖТФ. 2009. Т. 35. Вып. 11. С. 61--66
  6. Бурдовицин В.А., Жирков И.С., Окс Е.М., Осипов И.В., Федоров М.В. // ПТЭ. 2005. N 6. С. 66--68
  7. Osipov I., Rempe N. // Rev. Sci. Instrum. 2000. Vol. 71. N 3. P. 1--4
  8. Крейндель Ю.Е., Никитинский В.А. // ЖТФ. 1971. Т. 41. Вып. 11. С. 2378--2382
  9. Завьялов М.А., Крейндель Ю.Е., Новиков А.А., Шантурин Л.П. Плазменные процессы в технологических электронных пушках. М.: Энергоатомиздат, 1989. 256 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.