Приведены результаты исследования атомного состава термически напыленных пленок полифенольного антиоксиданта - ресвератрола (RVL) - толщиной до 50 nm, на поверхности окисленного кремния методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS). Обнаружено, что площадь пор в пленке RVL составляет около 15% общей площади поверхности. Приведены результаты по изучению стабильности пленок RVL при обработке поверхности ионами Ar⁺ с энергией 3 keV при значениях электрического тока через образец порядка 1 μА в течение 30 s. Обработка привела к увеличению площади пор до 30-40%, а отношение концентраций атомов C к O в пленке RVL как до ионной обработки поверхности, так и после не соответствовало химической формуле RVL-молекул. Методом атомносиловой микроскопии (AFM) в контактной моде с размером области сканирования порядка 10 μmx10 μm исследованы RVL-покрытия поверхности окисленного кремния и поликристаллического Au. Обнаружено, что пленки RVL создают зернистое и пористое покрытие поверхности подложек. Характерный размер зерен составлял 150-300 nm в плоскости поверхности образца, а характерный перепад высот достигал 30 nm. Работа выполнена при поддержке РФФИ (18-03-00020, 18-03-00179). В работе использовали оборудование научного парка СПбГУ "Физические методы исследования поверхности", "Диагностика функциональных материалов для медицины, фармакологии и наноэлектроники" и "Нанофотоника".

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.