Вышедшие номера
Пироэлектрический и пьезоэлектрический отклики тонких пленок AlN, эпитаксиально выращенных на подложке SiC/Si
Кукушкин С.А.1, Осипов А.В.1, Сергеева О.Н.2, Киселев Д.А.3, Богомолов А.А.2, Солнышкин А.В.2, Каптелов Е.Ю.4, Сенкевич С.В.1,4, Пронин И.П.4
1Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Тверской государственный университет, Тверь, Россия
3Московский институт стали и сплавов, Москва, Россия
4Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: o_n_sergeeva@mail.ru
Поступила в редакцию: 30 октября 2015 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2016 г.

Представлены результаты пироэлектрических и пьезоэлектрических исследований пленок AlN, сформированных методами хлорид-гидридной эпитаксии (ХГЭ) и молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) на выращенных методом замещения атомов эпитаксиальных нанослоях SiC на Si. Исследовалась топография поверхности, пьезоэлектрический и пироэлектрический отклики пленок AlN. Результаты исследования показали, что вертикальная составляющая пьезоотклика в пленках AlN, выращенных методом ХГЭ, более однородная по площади пленки, чем в пленках AlN, выращенных методом МЛЭ. Однако сама величина сигнала у пленки AlN, синтезированной МЛЭ, оказалась выше. Экспериментально обнаружен эффект инверсии полярной оси (вектора поляризации) при переходе от пленок AlN, выращенных методом МЛЭ, к пленкам, выращенным методом ХГЭ. Показано, что полярная ось в пленках, выращенных методом МЛЭ, направлена от свободной поверхности пленки к подложке Si, тогда как в пленках, выращенных методом ХГЭ, вектор поляризации, напротив, направлен к поверхности образца. С.А. Кукушкин, А.В. Осипов и С.В. Сенкевич благодарят Российский научный фонд за финансовую поддержку данной работы (грант N 14-12-01102). АСМ исследования выполнены на оборудовании ЦКП "Материаловедение и металлургия" НИТУ "МИСиС" при поддержке Минобрнауки.