Вышедшие номера
Комбинационное рассеяние света в приповерхностном слое n-GaAs при имплантации ионов бора
Авакянц Л.П.1, Горелик В.С.1, Темпер Э.М.1, Щербина С.М.1
1Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук, Москва, Россия
Email: Avakyants@Soft
Поступила в редакцию: 13 июля 1998 г.
Выставление онлайн: 20 июля 1999 г.

Исследованы закономерности в спектрах комбинационного рассеяния света приповерхностных слоев n-GaAs (n=2· 1018 cm-3) при имплантации ионов B+ с энергией 100 keV в диапазоне доз 3.1· 1011-1.2· 1014 cm-2. На основе предложенной методики анализа спектров комбинационного рассеяния света, зарегистрированных при комнатной температуре, получены качественные и количественные данные о концентрации носителей, их подвижности, а также о степени аморфизации кристаллической решетки и параметрах нанокристаллической фазы в процессе ионной имплантации.
  1. K.K. Tiong, P.M. Amirtharaj, F.H. Pollak, D.E. Aspnes. Appl. Phys. Lett. 44, 1, 122 (1984)
  2. M. Holtz, R. Zallen, O.Brafman, S. Matteson. Phys. Rev. B37, 9, 4609 (1987)
  3. M. Gargouri, B. Prevot, C. Schwab. J. Appl. Phys. 62, 9, 3902 (1987)
  4. Л.П. Авакянц, В.С. Горелик, И.А. Китов, А.В. Червяков. ФТТ 35, 5, 1354 (1993)
  5. Рассеяние света в твердых телах / Под ред. М. Кардоны, М. Гюнтеродта. В. 4. Мир, М. (1986)
  6. H. Richter, Z.P. Wang, L. Ley. Solid State Commun. 39, 625 (1981)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.