ФТТ, 2010, том 52, выпуск 2

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Исследование сверхтонких пленок силицида железа, выращенных твердофазной эпитаксией на поверхности Si(001)

В.В.Балашев\kern1pt*,**, В.В.Коробцов\kern1pt*,**, Т.А.Писаренко\kern1pt*,**, Е.А.Чусовитин\kern1pt*, К.Н.Галкин\kern1pt*

* Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН,
Владивосток, Россия
** Институт физики и информационных технологий Дальневосточного государственного университета,
Владивосток, Россия
E-mail: balashev@mail.dvo.ru

(Поступила в Редакцию 25 мая 2009 г.)

Сверхтонкие пленки силицида железа были выращены путем высокотемпературного отжига пленок Fe толщиной от 0.14 до 0.5 nm, осажденных на поверхность кремния с ориентацией (001) при комнатной температуре. Обнаружено, что отжиг приводит к образованию на поверхности нанометровых островков силицида железа, тип которого зависит от толщины пленки Fe. С использованием методов дифракции быстрых электронов и атомно-силовой микроскопии показано, что для пленок Fe толщиной менее 0.32 nm на поверхности Si(001) происходит эпитаксиальный рост как трехмерных островков gamma-FeSi2, так и двумерных beta-FeSi2. Обнаружено, что при покрытиях Fe толщиной более 0.32 nm наблюдается полный переход к твердофазной эпитаксии только двумерных островков beta-FeSi2. Исследовано влияние длительного отжига при 850oC на морфологию поверхности пленки силицида железа.

Работа была выполнена при поддержке гранта Дальневосточного отделения Российской академии наук (N 09-III-A-02-023).

 PDF версия (817Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2010, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster