ФТТ, 2008, том 50, выпуск 8

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Процессы силицидообразования в системе Fe/Si(111)7\kern-1ptx\kern-1pt7

М.В.Гомоюнова, Д.Е.Малыгин, И.И.Пронин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
E-mail: Marina.Gomoyunova@mail.ioffe.ru

(Поступила в Редакцию 27 декабря 2007 г.)

Методом фотоэлектронной спектроскопии высокого разрешения (~100 meV) с использованием синхротронного излучения изучены начальные стадии формирования силицидов железа в системе Fe/Si(111)7\kern-1ptx\kern-1pt7 в режиме твердофазой эпитаксии. Измерены и проанализированы спектры остовных Si 2p-электронов и электронов валентной зоны, полученные после нанесения на поверхность образца возрастающих доз железа величиной до 28 монослоев и последующих изохронных отжигов до температуры 650oC. Показано, что при напылении Fe сначала формируется сверхтонкая пленка метастабильного силицида FeSi со структурой типа CsCl, а затем на ней растет слой твердого раствора Fe--Si с сегрегированным кремнием. При покрытиях, больших 10 монослоев, на поверхности образца формируется пленка железа. Отжиги кристалла кремния, покрытого слоем Fe, приводят к последовательному образованию в приповерхностной области двух стабильных силицидных фаз --- varepsilon-FeSi и beta-FeSi2. При этом процесс твердофазного синтеза varepsilon-FeSi проходит через стадию трансформации пленки железа в твердый раствор Fe--Si.

Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (проект N 07-02-01009) и Российско-Германской лаборатории на BESSY.

PACS: 79.60.Dp, 68.43.-h

 PDF версия (370Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2008, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster