ФТТ, 2006, том 48, выпуск 2

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Дефекты и отслаивание аморфных нанопленок от кристаллических подложек

С.В.Бобылев *, И.А.Овидько *,**, А.Е.Романов ***, А.Г.Шейнерман *

* Институт проблем машиноведения Российской академии наук,
199178 Санкт-Петербург, Россия
** Санкт-Петербургский государственный университет,
198504 Санкт-Петербург, Россия
*** Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
E-mail: ovidko@def.ipme.ru

(Поступила в Редакцию 8 апреля 2005 г.
В окончательной редакции 15 апреля 2005 г.)

Теоретически исследованы условия отслаивания аморфной нанопленки от кристаллической подложки. Теоретический анализ проведен с помощью представлений дисклинационно-дислокационной модели межфазной границы \glqq кристалл--стекло\grqq, в рамках которой такая межфазная граница характеризуется высокой плотностью дисклинаций и дислокаций. Получен критерий отслаивания аморфной нанопленки от кристаллической подложки. Рассчитана зависимость критической толщины нанопленки (при превышении которой начинается ее отслаивание) от характеристик дисклинационно-дислокационной системы и дилатационного несоответствия.

Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 04-01-00211), ИНТАС (грант N 03-51-3779), программы РАН \glqq Структурная механика материалов и элементов конструкций\grqq, программ развития потенциала высшей школы и физики твердотельных наноструктур Министерства образования и науки РФ, Санкт-Петербургского научного центра РАН, Офиса морских исследований США (Office of US Naval Research, грант N 00014-05-1-0217) и Фонда содействия отечественной науке.

PACS: 62.20.Mk, 62.25.+g

 PDF версия (181Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2006, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster