Приведены результаты измерения с помощью атомно-силового микроскопа (АСМ) твердости ($H$) и модуля Юнга ($E$) в поверхностных слоях монокристаллического KCl на глубинах до 300 nm от поверхности в диапазоне нагрузок от 5 до $100$muN. Величины $H$ и $E$ оценивались \glqq косвенным\grqq способом по анализу кривых $P(h)$ (нагрузка на индентор --- глубина внедрения индентора). Кроме того, величина $H$ оценивалась \glqq прямым\grqq способом --- путем измерения площади отпечатка, визуализуемого АСМ с нанометрическим разрешением. Выявлено влияние структурных особенностей поверхности вокруг отпечатка индентора на точность оценок $H$ и $E$. Обнаружена резкая зависимость $H$ от величины нагрузки на индентор --- \glqq масштабный\grqq (наноразмерный) эффект. Качественно экспериментальные результаты хорошо согласуются с выводами модели \glqq геометрически необходимых дислокаций\grqq Никса и Гао, но для количественных оценок массопереноса материала из под наноиндентора необходимо структурное рассмотрение с учетом особенностей пластической деформации кристаллов.