Исследование электрофизических характеристик изотипного гетероперехода 3C-SiC-Si
Полонский Н.В.1,2, Лобанок М.В.1, Козодоев С.В.3, Гайдук П.И.1
1Белорусский государственный университет, Минск, Республика Беларусь
2НИУ " Институт ядерных проблем" БГУ, Минск, Беларусь
3ОАО " ИНТЕГРАЛ" --- управляющая компания холдинга " ИНТЕГРАЛ", Минск, Беларусь
Email: Palonski.Mikita@yandex.by, mishalobanok@gmail.com, gaiduk@bsu.by
Поступила в редакцию: 1 июля 2026 г.
В окончательной редакции: 10 сентября 2026 г.
Принята к печати: 11 сентября 2026 г.
Выставление онлайн: 16 октября 2026 г.
С использованием методов молекулярно-лучевой эпитаксии слоев 3C-SiC и электронно-лучевого испарения пленок металлов изготовлены выпрямляющие структуры Me|3C-SiC|Si (Me=Al, Ti, Ni). Измерения вольт-фарадных характеристик показали, что область пространственного заряда локализована в кремниевой подложке. Обнаружено, что в структурах Al|SiC|Si и Ni|SiC|Si ширина области пространственного заряда составляет соответственно 10.69 и 14.09 μm, что коррелирует с увеличением работы выхода металла. Путем численного решения одномерного уравнения Пуассона рассчитаны распределения потенциалов в слое 3C-SiC и Si. Полученные результаты интерпретированы с помощью модели металл-диэлектрик-полупроводник с учётом поверхностных состояний на границе раздела 3C-SiC-Si. Ключевые слова: гетероструктуры 3C-SiC|Si, изотипный гетеропереход, уравнение Пуассона, плотность поверхностных состояний.
- A.E. Kaloyeros, B. Arkles. In: Silicon Carbide --- From Materials Science to Nanotechnology and Microelectronics/ Ed. M. Amorim Fraga. IntechOpen (2025). Ch. 3. DOI: 10.5772/intechopen.1008414
- М.В. Лобанок, Н.В. Полонский, П.И. Гайдук. Журнал прикладной спектроскопии 90, 5, 775 (2023). [M.V. Lobanok, M.V. Palonski, P.I. Gaiduk. J. Appl. Spectrosc. 90, 5, 1064 (2023).]
- S.A. Kukushkin, L.K. Markov, A.S. Pavlyuchenko, I.P. Smirnova, A.V. Osipov, A.S. Grashchenko, A.E. Nikolaev, A.V. Sakharov, A.F. Tsatsulnikov, G.V. Sviatets. Coatings 13, 7, 1142 (2023)
- P. Tanner, A. Iacopi, H.-P. Phan, S. Dimitrijev, L. Hold, K. Chaik, G. Walker, D.V. Dao, N.-T. Nguyen. Sci. Rep. 7, 1, 17734 (2017)
- D.H. Dang Tran, T.-H. Nguyen, C.T. Nguyen, E.W. Streed, N.-T. Nguyen, V.T. Dau, D.V. Dao. Nano Energy 128, Part A, 109844 (2024)
- J. Liang, S. Nishida, T. Hayashi, M. Arai, N. Shigekawa. Appl. Phys. Lett. 105, 15, 151607 (2014)
- А.С. Зубрилов. ФТП 28, 10, 1742 (1994). [A.S. Zubrilov. Semiconductors 28, 10, 967 (1994).]
- J. Pezoldt, C. Forster, P. Weih, P. Masri. Appl. Surf. Sci. 184, 1-4, 79 (2001)
- R.R. Juluri, P. Gaiduk, J. Lundsgaard Hansen, A. Nylandsted Larsen, B. Julsgaard. Thin Solid Films 662, 103 (2018)
- E.H. Rhoderick, R.H. Williams. Metal--semiconductor Contacts, 2nd ed. Clarendon Press, Oxford (1988). 252 p
- А.С. Гращенко, Н.А. Феоктистов, А.В. Осипов, Е.В. Калинина, С.А. Кукушкин. ФТП 51, 5, 651 (2017). [A.S. Grashchenko, N.A. Feoktistov, A.V. Osipov, E.V. Kalinina, S.A. Kukushkin. Semiconductors 51, 5, 621 (2017).]
- N. Georgoulas, L. Magafas, A. Thanailakis. Active \& Passive Electron. Components 16, 1, 55 (1993)
- J. Mukherjee, A. Ranjan, A.K. Saxena, S. Karan, D.K. Dutta Majumder, A. Ghosh, S. Ghosh, P.K. Das, R. Banerjee. J. Mater. Chem. C 1, 42, 6945 (2013)
- A.G. Milnes, D. Feucht. Heterojunctions and metal-semiconductor junctions. Academic Press, New York (1972)
- Л.С. Стильбанс. Физика полупроводников. Сов. радио, М. (1967). 451 c
- A. Arvanitopoulos, N. Lophitis, S. Perkins, K.N. Gyftakis, M. Belanche Guadas, M.A. Antoniou. Proceed. IEEE 11th Int. Symp. Diagn. Electr. Mach., Power Electron. Drives (SDEMPED), 565 (2017)
- A.M. Cowley, S.M. Sze. J. Appl. Phys. 36, 10, 3212 (1965)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.