Вышедшие номера
Влияние олова на свойства нитрида галлия, выращенного методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии
Осипов А.В. 1, Шарофидинов Ш.Ш. 2, Осипова Е.В. 1, Редьков А.В. 3, Кукушкин С.А. 3
1Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Россия
Email: andrey.v.osipov@gmail.com, sergey.a.kukushkin@gmail.com
Поступила в редакцию: 4 июля 2024 г.
В окончательной редакции: 4 июля 2024 г.
Принята к печати: 5 июля 2024 г.
Выставление онлайн: 5 августа 2024 г.

Слой GaN n-типа, легированный оловом был выращен методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии (HVPE). Легирование оловом осуществлялось путем химической реакции с образованием SnCl2 и его последующим распадом в присутствии NH3. Показано, что легирование оловом приводит к исчезновению трещин и уменьшению шероховатости GaN. Исследованы оптические свойства GaN, легированного оловом. Показано, что в рамановском спектре GaN : Sn появляется толстая зона линий в области от 620 до 740 cm-1, связанная с колебаниями связей Sn-N. Электроны проводимости, возникающие при легировании GaN оловом, поглощают свет в области 2.2-3.3 eV. Методом функционала плотности показано, что атомы Sn сильно взаимодействуют друг с другом в кристалле GaN анизотропным образом, определяя локальную группу симметрии легированного кристалла. Ключевые слова: нитрид галлия, метод функционала плотности, хлорид-гидридная эпитаксия, ионный радиус, рамановский спектр.
  1. Wide Bandgap Semiconductors / Eds K. Takahashi, A. Yoshikawa, A. Sandhu. Springer, Berlin (2007). 460 p
  2. Gallium Nitride-enabled High Frequency and High Efficiency Power Conversion/Eds G. Meneghesso, M. Meneghini, E. Zazoni. Springer, Cham. (2018). 232 p
  3. K. Mochizuki. Vertical GaN and SiC Power Devices. Artech House, Norwood (2018). 263 p
  4. H.D.Jabbar, M.A. Fakhri, M.J. AbdulRazzaq. Mater. Today: Proc. 42, 2829 (2021). DOI: 10.1016/j.matpr.2020.12.729
  5. K. Hamasaki, K. Ohnishi, Sh. Nitta, N. Fujimoto, H. Watanabe, Y. Honda, H. Amano. J. Cryst. Growth 628, 127529. DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2023.127529
  6. S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. Condens. Matter Interphas. 24, 407 (2022). DOI: 10.1134/S1070363222040028
  7. S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. Russ. J. General Chem. 92, 584 (2022). DOI: 10.1134/S1070363222040028
  8. S.A. Kukushkin, L.K. Markov, A.S. Pavlyuchenko, I.P. Smirnova, A.V. Osipov, A.S. Grashchenko, A.E. Nikolaev, A.V. Sakharov, A.F. Tsatsulnikov, G.V. Sviatets. Coatings 13, 1142 (2023). DOI: 10.3390/coatings13071142
  9. G. Kresse, J. Furthmuller. Phys. Rev. B 54, 11169 (1996). DOI: 10.1103/PhysRevB.54.11169
  10. J.P. Perdew, A. Ruzsinszky, G.I. Csonka, O.A. Vydrov, G.E. Scuseria, L.A. Constantin, X. Zhou, K. Burke. Phys. Rev. Lett.  100, 136406 (2008). DOI: 10.1103/PhysRevLett.100.136406
  11. J.G. Lee. Computational Materials Science. CRS Press, Boca Raton (2017). 351 p
  12. G. Kresse, D. Joubert. Phys. Rev. B 59, 1758 (1999). DOI: 10.1103/PhysRevB.59.1758
  13. Ellipsometry at the Nanoscale / Eds M. Losurdo, K. Hingerl. Springer, Berlin (2013). 730 p
  14. S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. Materials 15, 4653 (2022). DOI: 10.3390/ma15134653

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.