Физика твердого тела

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2024
- 1 2 3 4
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Эволюция структурных и точечных дефектов в кварцевом стекле, подвергнутом тонкому отжигу

DOI: 10.21883/FTT.2023.08.56157.85

Переводная версия: 10.61011/PSS.2023.08.56579.85

Щербаков И.П.¹, Еронько С.Б.², Киреенко М.Ф.¹, Тихонова Л.В.¹, Чмель А.Е.¹

¹Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия Ioffe Institute, St. Petersburg, Russia

²Государственный оптический институт им. С.И. Вавилова, Санкт-Петербург, Россия Vavilov State Optical Institute, St. Petersburg, Russia

Email: chmel@mail.ioffe.ru

Поступила в редакцию: 22 мая 2023 г.

В окончательной редакции: 22 мая 2023 г.

Принята к печати: 26 июня 2023 г.

Выставление онлайн: 11 августа 2023 г.

PDF версия

Абстракт
Литература
Статистика просмотров

Кварцевое стекло с высоким содержанием групп OH, синтезированное высокотемпературным гидролизом SiCl₄, было подвергнуто тонкому отжигу. Сочетанием методов фотолюминесценции и ИК-спектроскопии отслеживалась эволюция ансамбля точечных и структурных дефектов в процессе отжига при температуре 480^oC. В объеме образцов наблюдалось заметное снижение концентрации дефектов силикатной сетки при экспозициях 24 и 72 h. На поверхности образцов после термического воздействия отмечено уменьшение концентрации силанольных групп Si-OH, возникших в примененном процессе синтеза. Гибель этих групп приводит к консолидации силикатной сетки, что отразилось в образовании поверхностного уплотненного слоя с повышенной микротвердостью. Ключевые слова: кварцевое стекло, тонкий отжиг, фотолюминесценция, инфракрасная спектроскопия. DOI: 10.21883/FTT.2023.08.56157.85

K.H. Jack, J.A. Winterburn. Patent US 322876. (1962)
H.E. Hagy. Appl. Opt. 7, 69 (1968)
W. Gang, L.Y. Bin, L.L. Zheng, Zh. Hui, X. Lei, Q.F. Min, M. Ping, Y.D. Yao Proc. SPIE 10154, 1015410 (2016)
V. Pezold. Optical Glass: In: Advances in Glass Science and Technology. Intech Open Book Series. Ch. 5. (2018)
M.H.S. Abadi, A. Delbari, Z. Fakoor, J. Baedi. J. Ceram. Sci. Tech. 6, 41 (2015)
R. Salh. J. At. Mol. Opt. Phys. ID 326368 (2011)
F. Flores, M. Aceves, C. Domi nguez, C. Falcony. Rev. Superficies y Vaci o. 18, 7 (2005)
J.C. Cheang-Wong, A. Oliver, J. Roiz, J.C. Hernandez, L. Rodri guez-Fernandez, J.G. Morales, A. Crespo-Sosa. Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. 175-177, 494 (2001)
M. Zhu, Y. Han. J. Appl Phys. 83, 5386 (1998)
F. Adam, J.-H. Chua. J. Colloid Interface Sci. 280, 55 (2004)
S. Pontonа, F. Dhainaut, H. Vergnes, D. Samelor, D. Sadowski, V. Rouessac, H. Lecoq, T. Sauvage, B. Caussat, C. Vahlas. J. Non-Cryst. Solids 515, 34 (2019)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель