Вышедшие номера
Исследование параметров сверхпроводящих и изолирующих элементов структур, получаемых на пленках YBCO методом задающей маски, при уменьшении их размеров
Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), 20-08-01006
Мастеров. Д.В.1, Павлов C.A.1, Парафин A.E.1, Скороходов E.B.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: masterov@ipmras.ru, pavlov@ipmras.ru, parafin@ipmras.ru, evgeny@ipmras.ru@ipmras.ru
Поступила в редакцию: 9 апреля 2021 г.
В окончательной редакции: 9 апреля 2021 г.
Принята к печати: 19 апреля 2021 г.
Выставление онлайн: 6 июня 2021 г.

Настоящая работа посвящена исследованию электрофизических параметров сверхпроводящих и изолирующих элементов планарных структур, изготавливаемых методом задающей маски на основе высокотемпературного сверхпроводника YBa2Cu3O7-d, при уменьшении размеров элементов до значений порядка одного микрометра. С использованием стандартной фотолитографии методом задающей маски получены структуры со сверхпроводящими элементами шириной 2 μm и параметрами, достаточными для приборных применений. Ключевые слова: нано- и микроструктуры, дефекты, рост в локальных областях, YBCO.