Вышедшие номера
Влияние химического состава кристаллов TlIn1-xErxS2 (0≤ x≤0.01) на их диэлектрические характеристики и параметры локализованных состояний
Переводная версия: 10.1134/S1063783419110246
Мустафаева С.Н.1, Асадов М.М.2
1Институт физики НАА, Баку, Азербайджан
2Институт катализа и неорганической химии им. акад. М. Нагиева НАН Азербайджана, Баку, Азербайджан
Email: solmust@gmail.com
Поступила в редакцию: 17 июня 2019 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2019 г.

В полученных кристаллах TlIn1-xErxS2 (0≤ x≤0.01) изучены частотные зависимости действительной (ε') и мнимой (ε'') составляющих комплексной диэлектрической проницаемости, тангенса угла диэлектрических потерь (tgdelta) и ac-проводимости (sigmaac) в области частот f=5·104-3.5·107 Hz. Установлено, что в TlIn1-xErxS2 имеет место релаксационная дисперсия ε' и ε''. Изучено влияние концентрации эрбия (Er) в кристаллах TlIn1-xErxS2 на их диэлектрические коэффициенты. В области высоких частот ac-проводимость кристаллов TlIn1-xErxS2 подчинялась закономерности sigmaac~ f0.8, характерной для прыжкового механизма переноса заряда по локализованным вблизи уровня Ферми состояниям. Оценены параметры локализованных в запрещенной зоне TlIn1-xErxS2 состояний, а также влияние химического состава кристаллов на эти параметры. Ключевые слова: сложные кристаллы TlIn1-xErxS2, частотная дисперсия, диэлектрические потери, прыжковый механизм переноса заряда, параметры локализованных состояний.
  1. Y. Shim, W. Okada, K. Wakita, N. Mamedov. J. Appl. Phys. 102, 1 (2007)
  2. T.D. Ibragimov, I.I. Aslanov. Solid State Commun. 123, 339 (2002)
  3. O.Z. Alekperov, G.B. Ibragimov, I.A. Axundov, A.I. Nadjafov, A.R. Fakix. Phys. Status Solidi C 6, 981 (2009)
  4. M.M. El-Nahass, S.B. Youssef, H.A.M. Ali, A. Hassan. Eur. Phys. J. Appl. Phys. 55, 1 (2011)
  5. O.O. Gomonnai, R.R. Rosul, P.P. Guranich, A.G. Slivka, I.Yu. Roman, M.Yu. Rigan. High Press. Res. 32, 39 (2012)
  6. M. Isik, S. Delice, N.M. Gasanly. Acta Phys. Pol. A 126, 1299 (2014)
  7. S. Delice, N.M. Gasanly. Physica B 499, 44 (2016)
  8. I.M. Ashraf, A. Salem, M.J.A.L. Salah. Euro. J. Appl. Eng. Sci. Res. 6, 2, 34 (2018)
  9. А.П. Одринский, M.-H.Yu. Seyidov, R.A. Suleymanov, Т.Г. Мамедов, В.Б. Алиева. ФТТ 58, 4, 696 (2016)
  10. Y. Araki, R. Asaba, K. Wakita, Y.G. Shim, K. Mimura, N. Mamedov. Phys. Status Solidi C 10, 1136 (2013)
  11. K. Wakita, M. Hagiwara, R. Paucar, Y. Shim, K. Mimura, N. Mamedov. J. Phys. Conf. Ser. 619 (2015). 012006. doi:10.1088/1742-6596/619/1/012006
  12. С.Н. Мустафаева, В.А. Алиев, М.М. Асадов. ФТТ 40, 4, 612 (1998)
  13. С.Н. Мустафаева, М.М. Асадов, В.А. Рамазанзаде. ФТТ 38, 1, 14 (1996)
  14. А.В. Короткий, А.У. Шелег, В.В. Шевцова, А.В. Мудрый, С.Н. Мустафаева. Журн. прикл. спектроскопии 79, 3, 418 (2012)
  15. С.Н. Мустафаева, М.М. Асадов, А.А. Исмайлов. ФТТ 51, 11, 2140 (2009)
  16. А.У. Шелег, В.Г. Гуртовой, В.В. Шевцова, С.Н. Мустафаева. ФТТ 54, 9, 1754 (2012)
  17. S.N. Mustafaeva, V.A. Ramazanzade, M.M. Asadov. Mater. Chem. Phys. 40, 2, 142 (1995)
  18. С.Н. Мустафаева, М.М. Асадов, В.А. Рамазанзаде. Неорган. материалы 31, 3, 318 (1995)
  19. С.Н. Мустафаева, М.М. Асадов, Э.М. Керимова, Н.З. Гасанов. Неорган. материалы 49, 12, 1271 (2013)
  20. С.Н. Мустафаева, М.М. Асадов, Э.М. Керимова. ФТТ 55, 12, 2346 (2013)
  21. А.У. Шелег, В.В. Шевцова, В.Г. Гуртовой, С.Н. Мустафаева. Поверхность. Рентг., синхр. нейтр. исслед. 11, 39 (2013)
  22. С.Н. Мустафаева. Журн. pадиоэлектроники. 5, 1 (2008)
  23. В.В. Пасынков, В.С. Сорокин. Материалы электронной техники. Высш. шк., М. (1986). 368 с
  24. Н. Мотт, Э. Дэвис. Электронные процессы в некристаллических веществах. Мир, М. (1974). 472 c
  25. Ю.И. Равич, С.А. Немов. ФТП 36, 1, 3 (2002)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.