Вышедшие номера
Рост и оптические свойства нитевидных нанокристаллов GaN, выращенных на гибридной подложке SiC/Si(111) методом молекулярно-пучковой эпитаксии
Резник Р.Р.1,2,3, Котляр К.П.1,4, Илькив И.В.1,2, Сошников И.П.1,4,5, Кукушкин С.А.1,3,6, Осипов А.В.1,3,6, Никитина Е.В.1, Цырлин Г.Э.1,3,7
1Санкт-Петербургский aкадемический университет, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
3Университет ИТМО, Санкт-Петербург, Россия
4Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
5Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
6Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
7Институт аналитического приборостроения Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Email: moment92@mail.ru.ru
Поступила в редакцию: 8 апреля 2016 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2016 г.

Продемонстрирована принципиальная возможность выращивания нитевидных нанокристаллов GaN методом молекулярно-пучковой эпитаксии на кремниевой подложке с наноразмерным буферным слоем карбида кремния. Исследованы морфологические и оптические свойства полученной системы. Показано, что интенсивность пика спектра фотолюминесценции у таких структур более чем в 2 раза выше, чем у лучших структур нитевидных нанокристаллов GaN без буферного слоя карбида кремния. Работа выполнена при финансовой поддержке гранта РФФИ N 15-02-06839 и фонда Сколково (соглашение о предоставлении гранта Pоссийской образовательной и научной организации N 6 от 30 декабря 2015 г.). С.А. Кукушкин и А.В. Осипов благодарят за финансовую поддержку Российский научный фонд (грант N 14-22-00018).