Вышедшие номера
Влияние взаимодействия в системе Ga-As-O на морфологию поверхности GaAs при молекулярно-лучевой эпитаксии
Российский научный фонд, 15-19-10006
Агеев О.А. 1, Балакирев С.В. 1, Солодовник М.С. 1, Еременко М.М.1
1Южный федеральный университет, Институт нанотехнологий, электроники и приборостроения, Таганрог, Россия
Email: solodovnikms@mail.ru
Поступила в редакцию: 18 августа 2015 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2016 г.

Проведен термодинамический анализ и определены теоретические закономерности процессов межфазного взаимодействия в системе Ga-As-О с учетом нелинейных теплофизических свойств соединений, состава оксидных пленок и режимов молекулярно-лучевой эпитаксии GaAs. Проведены экспериментальные исследования процессов взаимодействия собственного окисла GaAs с материалом подложки, а также с Ga и As4 из парогазовой фазы. Показана корреляция экспериментальных результатов с результатами термодинамического анализа. Предложены закономерности влияния процессов удаления собственного окисла на эволюцию морфологии поверхности GaAs в условиях молекулярно-лучевой эпитаксии. Исследование выполнено за счет гранта Российского научного фонда (проект N 15-19-10006). Результаты получены с использованием оборудования Центра коллективного пользования и Научно-образовательного центра "Нанотехнологии" Южного федерального университета.