Вышедшие номера
Влияние одноосного сжатия на люминесценцию автолокализованных экситонов в CsI при 80 K
Бекешев А.З.1, Васильченко Е.А.2, Шункеев К.Ш.1, Эланго А.А.2
1Актюбинский педагогический институт, Актюбинск, Казахстан
2Институт физики Эстонии, ЕЕ Тарту, Эстония
Поступила в редакцию: 18 июля 1996 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1996 г.

Для исследования релаксации возбуждения в щелочно-галоидных кристаллах (ЩГК) мы пользовались ранее [1,2] методом одноосного сжатия, предложенным и развитым в [3]. В напряженной одоосным сжатием кристаллической решетке симметрия понижается, могут изменяться условия миграции и автолокализации возбуждений, а также устойчивость различных конфигураций автолокализованных экситонов (АЛЭ). В данной работе приведены результаты исследования влияния напряжения одноосного сжатия при 80 K на спектры люминесценции кристаллов CsI (выращены в ИФ Эстонии из сырья, прошедшего шестидесятикратную зонную плавку), возбужденных при 80 K глубокопроникающими X-лучами (120 kV, 4 mA) и светом (через монохроматор ВМР-2), соответствующим селективному созданию экситонов (5.85 eV) и электронно-дырочных пар (6.45 eV) [4]. Величина сжатия не превышала 1 Kbar, сжатие равнялось нескольким процентам. Использовались неориентированные кристаллы CsI, что является приближением к реально встречающимся на практике сжатия (закреплениям). Все спектры исправлены. При возбуждении светом с энергией квантов 5.85 eV в спектре люминесценции (кривая 1 на рис. 1) видны две полосы с максимумами около 3.67 и 4.25 eV. Первое свечение - это хорошо известное [4-10] излучение АЛЭ, связываемое [5,7] с его off-конфигурацией. Второе свечение по положению максимума близко к интенсивному при 4.2 K свечению АЛЭ, имеющему [5,7] on-конфигурацию, которое считается при температуре 80 K практически потушенным, а в дальнейшем разгорается вновь со смещением до 4.1 eV при 300 K [4,7]. Однако в некоторых работах [8,9] и при 80 K в этой области спектра было зарегистрировано свечение (спектры похожи на приведенные в настоящей работе). Такие различия указывают на высокую структурную чувствительность соответствующих центров свечения. При возбуждении светом с энергией квантов 6.45 eV спектр свечения совсем другой (кривая 2 на рис. 1): хорошо выделяются примесные и околодефектные свечения [8-11] (в области 2.0-3.5 eV и около 4.05 eV), интенсивность которых сравнима со свечением off-центров. Вклад свечения 4.25 eV мал. В противоположность этому при возбуждении x-лучами (кривая 1 на рис. 2) интенсивность последнего, наоборот, выше интенсивности свечения off-центров АЛЭ, а примесные свечения практически незаметны. При приложении одноосного сжатия спектры свечения при всех способах возбуждения становятся одинаковыми и состоят преимущественно из одной полосы свечения off-центов АЛЭ (кривые 1', 2' на рис. 1, 2). Одним из результатов данного исследования является то, что одноосное сжатие существенно ослабляет интенсивность примесных свечений, которые в данном кристалле максимально проявились при создании электронно-дырочных пар. При 80 K автолокализованные дырки в CsI уже подвижны [12], и наличие примесных свечений в ненапряженном кристалле является следствием прыжковой миграции дырок к примесям. Тот факт, что передача возбуждения примесям при селективном создании экситонов в CsI при 80 K мала, может быть связан с малым временем жизни экситонов по отношению к их излучательному распаду. Прыжковая миграция экситонов, надежно зарегистрированная ранее для других ЩГК [13], в CsI, возможно, не успевает реализоваться. Для дырок опасность излучательного распада актуальна лишь после захвата электронов, и потому они успевают эффективно переносить возбуждение. Незначительность передачи возбуждения примесям при X-облучении наводит на мысль о том, что в треках высокоэнергетических квантов может быть эффективно рекомбинационное рождение экситонов. В напряженном кристалле CsI миграция дырок, очевидно, затруднена, что приводит к их принудительной автолокализации в местах рождения и к увеличению во много раз свечения off-конфигураций АЛЭ. Усиление этого свечения значительно меньше, если передача возбуждения на примеси и дефекты изначально была мала (как при возбуждении X и 5.85 eV). Интересно сравнить полученные результаты с данными метода гидростатического сжатия [5,14], когда симметрия решетки не понижается, но уменьшается ее постоянная. В противоположность методу одноосного сжатия наблюдается увеличение барьера для автолокализации и усиление передачи на примеси, а также исчезновение (при больших давлениях) свечения АЛЭ 3.67 eV. Последнее и послужило основанием для предположения, что это свечение обусловлено излучательной релаксацией off-центров АЛЭ, которые при гидростатическом сжатии становятся неустойчивыми. Наши данные согласуются с этой гипотезой, так как при одноосном сжатии устойчивость соответствующих центров свечения сохраняется, что и можно ожидать для off-конфигурации АЛЭ. [!tb] [width=]379-1.eps Фотолюминесценция CsI, при 80 K облученного светом с энергией кванта 5.85 ( 1, 1') и 6.45 eV ( 2, 2'). 1, 2 - до приложения напряжения сжатия, 1', 2' - в однооснонагруженном при 80 K до 2 % сжатия кристалле. [width=]379-2.eps Рентгенолюминесценция CsI при 80 K: 1 - до приложения напряжения сжатия, 1' - в однооснонагруженном при 80 K до 4 % сжатия кристалле. Другим результатом работы является факт уменьшения в десятки раз свечения 4.25 eV при приложении одноосного сжатия. Этот факт интересен потому, что короткое (по [8,9]) свечение в этой области спектра перспективно использовать в сцинтилляторах [7-9]. Уменьшение свечения 4.25 eV согласуется как с возможностью потери устойчивости on-конфигурации АЛЭ, так и с возможной примесной природой этого свечения (тогда оно уменьшается из-за ослабления миграции возбуждений). Если это примесь, то надо объяснить, почему она при 80 K очень слабо возбуждается светом с энергией кванта 6.45 eV, когда другие примеси, наоборот, отчетливо проявлены. Если это свечение АЛЭ в on-центровой конфигурации, то следует объяснить, почему его при 80 K далеко не всегда можно зарегистрировать. Одной из возможных причин расхождения экспериментальных результатов разных авторов может быть наличие неконтролируемых напряжений в кристалле, которые, как видно из результатов данной работы, способны радикально изменить соотношение полос свечения в CsI. В заключение выражаем благодарность академику Ч.Б. Лущику за ценные замечания.