Вышедшие номера
Особенности формирования пленок иттербия на поверхности Si(111) при комнатной температуре
Бутурович Д.В., Кузьмин М.В., Логинов М.В., Митцев М.А.
Поступила в редакцию: 17 мая 2007 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2007 г.

С помощью методов контактной разности потенциалов, электронной Оже-спектроскопии, дифракции медленных электронов и термодесорбционной спектроскопии исследованы процессы, сопровождающие формирование пленок иттербия на поверхности Si(111) при комнатной температуре. Показано, что растущие пленки металла однородны по толщине и что растворение атомов Si в них практически отсутствует. Установлено, что ограниченная диффузия атомов кремниевой подложки в металлическую пленку Yb может происходить только при облучении поверхности первичными пучками высокоэнергетических электронов, применяемых в методе электронной Оже-спектроскопии. На основании полученных результатов сделан вывод, что наблюдавшиеся нами ранее размерные осцилляции работы выхода в тонкопленочных структурах Yb-Si(111) не могут быть обусловлены растворением атомов кремния в осаждаемой пленке иттербия. Работа выполнена при поддержке Санкт-Петербургского научного центра РАН. PACS: 73.30.+y, 73.21.-b, 68.55.-a
  1. Д.В. Бутурович, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 48, 2085 (2006)
  2. G. Rossi, J. Nogami, I. Lindau, L. Braicovich, I. Abbati, U. del Pennino, S. Nannarone. J. Vac. Sci. Technol. A 1, 781 (1983)
  3. I. Chorkendorff, J. Kofoed, J. Onsgaard. Surf. Sci. 152/153, 749 (1984)
  4. L. Braicovich, I. Abbati, C. Carbone, J. Nagami, I. Lindau. Surf. Sci. 168, 193 (1986)
  5. C. Wigren, J.N. Andersen, R. Nyholm, U.O. Karlsson. J. Vac. Sci. Technol. A 9, 1942 (1991)
  6. R. Hofmann, W.A. Henle, F.P. Netzer, M. Neuber. Phys. Rev. B 46, 3857 (1992)
  7. Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 39, 1672 (1997)
  8. Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 39, 256 (1997)
  9. T.V. Krachino, M.V. Kuz'min, M.V. Loginov, M.A. Mittsev. Appl. Surf. Sci. 182, 115 (2001)
  10. В.Н. Агеев, Е.Ю. Афанасьева, Н.Р. Галль, С.Н. Михайлов, Е.В. Рутьков, А.Я. Тонтегоде. Поверхность 5, 7 (1987)
  11. Handbook on Simiconductors. V. 2. Optical properties of semiconductors / Ed. M. Balkanski. Elsevier, Amsterdam, The Netherlands (1994). 857 p
  12. K. Takayanagi, Y. Tanishiro, M. Takahashi, S. Takahashi. J. Vac. Sci. Technol. A 3, 1502 (1985); Surf. Sci. 164, 367 (1985)
  13. R. Smoluchowski. Phys. Rev. 60, 661 (1941)
  14. W. Monch. Springer-Verlag series in surface science. V. 22. Semiconductor surfaces and interfaces. Berlin--Heidelberg (1993). 366 p
  15. R. Kern, G. LeLay, J.J. Metois. Current topic in material science. V. 3. Basic mechanisms in the early stages of epitaxy / Ed. E. Kaldis. North-Holland (1979). P. 131

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.