Вышедшие номера
Генерация и движение дислокаций при механических повреждениях поверхности карбида кремния
Трегубова А.С.1, Мохов Е.Н.1, Шульпина И.Л.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 14 июля 1993 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1993 г.

Исследовано распределение дислокаций в SiC, генерируемых царапинами, наносимыми алмазным резцом, при температуре отжига Ta = 800/ 2000o C. Выявлена высокая подвижность дислокаций при относительно низкой Ta= 1200/ 1300o C, сохраняющаяся, однако, в течение короткого промежутка времени (tau < 1 мин). Обнаружено, что скорость разбега дислокаций выше в эпитаксиальных слоях SiC, выращенных вакуумной сублимацией. Более подвижными являются дислокации, распространяющиеся от царапин на грани (0001) Si, чем на грани (000=1) C. Результаты объясняются с учетом влияния на перемещение дислокаций собственных точечных дефектов.