Вышедшие номера
Скачок концентрации электронов проводимости при переходе металл--диэлектрик в легированных полупроводниках
Михеев В.М.1
1Институт физики металлов им. М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук, Екатеринбург, Россия
Поступила в редакцию: 4 марта 1993 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1993 г.

В модели сильной связи рассмотрен случай слабокомпенсированного полупроводника с равномерным распределением примесных центров донорного типа. Изучены плотность состояний в примесной зоне и концентрационные зависимости в окрестности перехода Мотта. В качестве примесных потенциалов взяты экранированные кулоновские потенциалы. Считается, что основной вклад в экранирование вносят свободные электроны. Показано, что это условие приводит к скачку концентрации электронов проводимости при переходе металл-диэлектрик с диэлектрической стороны. Величина скачка концентрации электронов проводимости зависит от эффективности механизмов экранирования. В случае модели Пайнса величина скачка равна концентрации доноров, т.е. все доноры ионизируются одновременно. В случае же, когда механизмы экранирования менее эффективны, величина скачка концентрации электронов проводимости меньше концентрации доноров. При этом на металлической стороне перехода Мотта существуют связанные состояния электронов на донорах.